H01L 21/66
Spo#ob merania fyzikálnych veličin charakterizujúcich hlboké stavy v semiizolačn ých polovodičoch a zapojenie na uskutečnenie tohoto sposobu
Číslo patentu: 274967
Dátum: 17.12.1991
Autori: Dubecký František, Kordoš Peter Sav
MPK: H01L 21/66, G01R 31/26
Značky: tohoto, semiizolačn, uskutečnenie, polovodičoch, spo#ob, veličin, merania, charakterizujúcich, spôsobu, stavy, hlboké, fyzikálnych, zapojenie
Testovací čip pro polovodičové struktury s testovatelnou řídící logikou
Číslo patentu: 273671
Dátum: 12.03.1991
Autori: Hulenyi Ladislav, Adamíček Ivan, Malý Ľudovít
MPK: H01L 21/66, G01R 31/26
Značky: polovodičové, řídící, struktury, testovací, testovatelnou, logikou
Zařízení pro optické měření homogenity vlastností polovodičových a izolačních ma teriálů
Číslo patentu: 272390
Dátum: 15.01.1991
Autori: Beneš Petr, Bürger Antonín
MPK: H01L 21/66, G01N 21/01
Značky: teriálů, vlastností, homogenity, zařízení, izolačních, optické, polovodičových, měření
Zapojení pro měření homogenity elektrického pole v polovodičových strukturách
Číslo patentu: 272020
Dátum: 13.12.1990
Autor: Zamba Juraj
MPK: H01L 21/66, G01R 31/26
Značky: polovodičových, měření, strukturách, elektrického, zapojení, homogenity
Spôsob merania povrchového odporu dvojimplantačnej metódy
Číslo patentu: 271742
Dátum: 14.11.1990
Autori: Jurica Jozef, Liška Jan
MPK: H01L 21/66, H01L 21/265
Značky: metody, merania, dvojimplantačnej, odporu, povrchového, spôsob
Zařízení pro měření optického výkonu emisních čelně emitujících čipů
Číslo patentu: 268127
Dátum: 14.03.1990
Autori: Čotek Petr, Sika Jiří
MPK: G02B 6/14, H01L 21/66, G02B 6/12...
Značky: čipu, emitujících, čelně, zařízení, měření, optického, emisních, výkonu
Text:
...měření optického výkonu čipu na cele desce před použitím ke zpracování. Nepřesností vzniklé opotřebenín detektoru jsou vzhledem k požadovaným nârokům na měření zanedbatelné. Výhodou zařízení podle vynälezu je jeho velká operativnos měření, snadnà možnost automatizace a na nipulace s čipem při měření.Na připojenem výkrese je vyobrazeno blokově schéma zařízení pro měření optického výkonu emisních čelnč emítujících čipů.°rincip spočívà v...
Způsob úpravy epitaxní vrstvy před měřením epitaxní struktury indiumfosfidu
Číslo patentu: 265840
Dátum: 14.11.1989
Autori: Veselý Miroslav, Mlejnková Jiřina, Kvasničková Miroslava, Šťastný Vladimír
MPK: H01L 21/66, H01L 21/302
Značky: vrstvy, měřením, epitaxní, indiumfosfidu, před, struktury, úpravy, způsob
Text:
...kvalita povrchu epitaxní struktunm a tím také přesnost měření.Uvedené nevýhody z velké části odstraňuje způsob úpravy epitaxní struktury indiumfosfidu před jejím měřením metodou snímání charakteristík kapacita-napětí na Schottxyho přechodu pomocí rtutová sondy podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom,že se substrát a nanesenou epítaxní strukturou n-typu vodivosti ponoří do redostilované vody, zahřáté na bod varu po dobu lt 2 minut.Výhodou...
Způsob detekce vnitřních zkratů na interdigitalizovaných strukturách v zapouzdřených polovodičových součástkách
Číslo patentu: 265361
Dátum: 13.10.1989
Autori: Škaloud Miroslav, Zamastil Jaroslav, Muller Ilja, Homola Jaroslav
MPK: H01L 21/66, G01R 31/26
Značky: zapouzdřených, součástkách, polovodičových, interdigitalizovaných, vnitřních, strukturách, způsob, detekce, zkratu
Text:
...elektrody a katody výše uvedené zkraty detekovat nelze,protože tyristorová struktura mezi vývodem řídící elektrody a katodou pomocného tyristoru vnáší do měřícího obvodu sériový odpor, který je mnohem větší, než. velikost odporu mezi katodovou elektrodou a katodcu pomocného tyristoru u nezkratované struktury. známé způsoby detekce zkratů tedy neumožňují provádět výstupní kontrolu zapouzdřených součástek,a nelze takzabránit expedování součástek...
Zapojenie pre automatické vyhodnocovanie časového priebehu elektrického signálu v procese plazmochemického leptania
Číslo patentu: 262611
Dátum: 14.03.1989
Autori: Mikuš Oliver, Trnovec Jozef, Martišovitš Viktor
MPK: G06G 7/18, H01H 1/36, H01H 1/30...
Značky: časového, automatické, zapojenie, priebehu, elektrického, vyhodnocovanie, signálu, procese, leptania, plazmochemického
Text:
...funkciou nulovania možno blokovat vyhodnocovanie signálu. Druhá funkcia sledovania prírastku vyhodnocovaného signálu zabezpečuje širokú dynamiku pripojeného diferenčného obvodu 1. V tretej funkcii sa určuje zmena signálu vzhladom na prechádzajúoi extrém, čim sa zaručuje jednoznačne a presné vyhodnotenie zmien signálu, ktorý má nemonotônny časový priebeh. Vhodnou kombináciou týchto troch funkcii prirastkového zosilňovače g možno postupne...
Analyzátor energií elementárních částic
Číslo patentu: 258565
Dátum: 16.08.1988
Autor: Fišer Jan
MPK: G01R 31/26, G01N 23/08, H01L 21/66...
Značky: částic, elementárních, analyzátor, energií
Text:
...výhodou analyzátoru je zvýšení jeho rozlišovací schopnosti, zadrží pozadí signálu vytvořeného částicemi prošlými otvorem analyzační mřížky. Značně se omezí Vliv extrakčních polí na primární svazek elementárních částic a sníží se vliv terciálních částic.Vynález blíže qpjasní přiložený výkres, na kterém je znázorněn ve zjednodušeném náčrtku analyzátor v osovém řezu.Analyzátor tvoří jednak extrakční prostor 2 a jednak brzdné pole lg...
Spôsob hodnotenia kvality systémov výkonových polovodičových súčiastok
Číslo patentu: 242157
Dátum: 15.09.1987
Autori: Novák Zdenik, Biheller Jan, Bor Jan, Mikoláš Petr, Labohý Ivan
MPK: H01L 21/66
Značky: súčiastok, výkonových, polovodičových, kvality, spôsob, systémov, hodnotenia
Text:
...teplotným cyklickýmskúškam, v skrátení času potrebného na skúšky 1 O 3 krát v šetrení pracovných sil v počte najmenej 1 000 hodin, v ušetrení chladiacej vody v množstve cca 200 m 5 a urýchlení prác vo výskume a vývoji výkonovýoh polovodičových súčiastok najmenej o 3 mesiace.vyznačený postup je novou diagnosticktou metódou pre hodnotenie vlastností výkonových polovodičových súčiastok, ktorá umožňuje nahradit doterajšie teplotné...
Způsob kontroly úrovně znečištění polovodičových desek
Číslo patentu: 231897
Dátum: 15.12.1986
Autori: Žamberský Vlasta, Pína Bohumil, Šváb Petr, Homola Jaroslav
MPK: H01L 21/66
Značky: úrovně, znečištění, způsob, desek, polovodičových, kontroly
Zhrnutie / Anotácia:
Vynález se týká způsobu kontroly úrovně znečištění polovodičových desek, kde v průběhu vysokoteplotních operací se do křemenných aparatur jednorázově nebo v pravidelných intervalech vkládají testovací struktury s jedním vysokonapěťovým přechodem PN a s koncentrací hlubokých příměsí nižší než 2.1011 atomů cm-3. Testovací struktury se zpracují spolu s výrobními dávkami a po skončení vysokoteplotních operací se měří koncentrace hlubokých příměsí v...