Ferdinandy Milan
Spôsob a zariadenie na povrchovú úpravu vnútorných plôch rotačných telies
Číslo patentu: 288278
Dátum: 25.05.2015
Autori: Lofaj František, Dusza Ján, Kottfer Daniel, Ferdinandy Milan
MPK: C23C 14/46
Značky: ploch, rotačných, spôsob, úpravu, povrchovú, vnútorných, zariadenie, telies
Zhrnutie / Anotácia:
Vynález sa týka zariadenia na povrchovú úpravu vnútorných plôch rotačných telies a uskutočňuje sa tak, že na vnútornú valcovú plochu rotačného telesa sa pôsobí odprášenými iónmi z materiálu, ktoré sa odprašujú z tyče, tvorenej príslušným materiálom, napr. z TiN, WC, CrN, CrC a ďalšími nitridmi a/alebo karbidmi, a/alebo boridmi prechodových kovov, a ktorá je umiestnená vnútri rotačného telesa a to tak, že geometrická os tyče je totožná...
Zariadenie na vytváranie ochranných vrstiev na vnútorných plochách rotačných telies odparovaním látky elektrónovým lúčom
Číslo patentu: 288254
Dátum: 19.01.2015
Autori: Ferdinandy Milan, Dusza Ján, Kottfer Daniel, Lofaj František
MPK: C23C 14/22, C23C 14/24, C23C 14/30...
Značky: elektrónovým, plochách, telies, ochranných, lúčom, rotačných, vnútorných, látky, vytváranie, vrstiev, zariadenie, odpařováním
Zhrnutie / Anotácia:
Zariadenie na vytváranie ochranných vrstiev na vnútorných plochách rotačných telies odparovaním látky elektrónovým lúčom pozostávajúce z vákuovej komory, v ktorej je umiestnené rotačné teleso, na ktoré je pripojený cez elektrickú vákuovú priechodku elektrický zdroj. V zariadení je ďalej umiestnené elektrónové delo s priamo žeravenou alebo dutou katódou, pripojené cez elektrickú vákuovú priechodku na elektrický napájací zdroj. V zariadení je...
Zariadenie na prípravu vrstiev karbidov, nitridov, silicidov, boridov W, Cr, Mo, Re, Os, Rh, Ru a multivrstvových a kompozitných štruktúr na vnútornej valcovej ploche elektricky vodivej rúry
Číslo patentu: 288155
Dátum: 16.12.2013
Autori: Lofaj František, Kottfer Daniel, Ferdinandy Milan, Hegedűsová Lucia, Dusza Ján
MPK: B32B 1/08, B05D 7/22, C23C 4/10...
Značky: karbidov, elektricky, silicidov, vrstiev, struktur, multivrstvových, ploché, přípravu, kompozitných, vodivej, vnútornej, boridov, zariadenie, rúry, valcovej, nitridov
Zhrnutie / Anotácia:
Opisované zariadenie pozostáva z elektricky vodivej rúry, ktorá sa má povliekať a ktorá je pripojená na jednosmerný, pulzný alebo vysokofrekvenčný elektrický zdroj. Do tejto rúry je umiestnená perforovaná rúra, ktorá je spojená s potrubím so sublimačnou komorou a zásobníkmi nosného plynu na chemické nanášanie povlaku v plazme.
Vákuový doskový ventil
Číslo patentu: 264848
Dátum: 12.09.1989
Autori: Ferdinandy Milan, Liska Dušan, Semsey Ladislav, Pecár Ivan, Král Jozef
MPK: F16K 51/02
Značky: doskový, ventil, vakuový
Text:
...nárys v čiastočnom reze vákuového doskového vevtilu podľa vynálezu v uzavretom stave. obr. 2 znázorňuje bokorys v reze. Obr. 3 zobrazuje rez B-B aDoskový vákuový ventil znázornený na pripojených obrázkoch pozostáva z telesa l, ktoré je z boku opatrené púzdrom 3, ktorého rozmer odpovedá rozmeru dosky Q danej svetlostou prierezu ventilu, oproti ktorému je príruba gg, v ktorej je uložené posuvné tiahlo Ä vykonávajúce vratný posuvný pohyb...
Spôsob úpravy povrchových a podpovrchových vrstiev kontaktných ploch odvalovania
Číslo patentu: 261694
Dátum: 10.02.1989
Autori: Pecár Ivan, Král Jozef, Stolař Pavel, Liska Dušan, Hancin Jozef, Halásek Jiří, Širila Tibor, Mruz Vladimír, Ferdinandy Milan
MPK: F16C 33/12
Značky: úpravy, povrchových, kontaktných, ploch, odvalovania, podpovrchových, vrstiev, spôsob
Text:
...12, 17 a 19 žijhanýchna mäkko pokrytá antireflexným povlakom sa ožaruje laserovým lúč-om pod uhlom dopadu lúwča v rozsahu od 85 ° do 95 °, pri plošnej hustote výkonu v rozsah-u 105 až 10 É Wcm .a hustote energie v rozsahu 10.10 až 150 . 10 Mjmď, pričom sa sto-pa pôsobenia lúča prekrýva v rozsahu 0,1 až 0,4 mm a takto upravená plocha sa následne leští na drsnost povrchu Ra x 0,4 až 0,2 m, zla čím sa na takto pripravený povrch pôsobí plazmou...
Sublimátor pre vákuové zariadenie na prípravu vrstiev
Číslo patentu: 259290
Dátum: 17.10.1988
Autori: Liska Dušan, Pecár Ivon, Král Jozef, Ferdinandy Milan
MPK: C23C 14/56
Značky: sublimátor, vrstiev, zariadenie, přípravu, vákuové
Text:
...o organokovové látky a karbonyly kovov, tieto sú zvyčajne do odparovačav vo vákuových koemorách vkladané pria mo. v takýchto pŕĺpädťich dochaaza k ichodparovaniu už počas čerpania vakuovej komory, čím sa znovu znečisťuje povrch podložieąk a vákuova komora, a to pred začiatkom technologického procesu.Uvedené nedostatky odstraňuje zariadenie podľa vynalezu, ktorého iłflšistata spočíva v tom, že na komoru 1 vákuovéh~o~ zariadenia na...
Sposob vytvárania oxidových alebo kovových kobaltových povlakov na keramickom substráte
Číslo patentu: 257466
Dátum: 16.05.1988
Autori: Ferdinandy Milan, Czajlík Mikuláš, Král Jozef, Liska Dušan, Buda Ján
MPK: C04B 41/88
Značky: substráte, vytvárania, povlakov, oxidových, kovových, keramickom, kobaltových, spôsob
Text:
...náročné technologické zariadenie. Ďalšou výhodou podľa vynálezu je vysoká Čistota a hladkost vytvorených kobaltových povlakov, pričom Čistota je jednoducho dosažiteľná použitím kryštalických hydrátov soli s definovanou čistotou.K tvorbe kobaltového povlaku na slinutom korunde sa použije hexahydrát bisdusičnanu kobaltnatého Co(NO 3)2.6 H 2 O. Potrebné množstvo zlúčeniny sa určí podľa rozmerov vzorky, aby tavenina dokonale zmáčala...
Spôsob prípravy oteruvzdornej vrstvy nitridu titánu na elektricky vodivom substráte
Číslo patentu: 255357
Dátum: 15.03.1988
Autori: Kavečanský Viktor, Liska Dušan, Král Jozef, Ferdinandy Milan
MPK: C23C 14/48, C23C 14/30
Značky: přípravy, vodivom, nitridů, substráte, oteruvzdornej, spôsob, titanu, elektricky, vrstvy
Text:
...odmasťovačke a V dôsledkubombardovania aj ohrev substrátu na požadovanú teplotu, ,ktorá závisí na vlastnostiach základného materiálu substrátu a ktorá je vyššia ako 350 °C.Proces vytvárania TiNx vrstvy podľa vynálezu je možne popísať napriklad z hladiska povlakovaného substrátu, pričom počas procesu je potrebné prihliadať na vlastnosti základného materialu a tomu prispôsobiť aj technologické parametre prípravy vrstvy. svojimi...
Sposob prípravy oteruvzdornej tenkej vrstvy karbidu titánu na elektricky vodivom pevnom substráte
Číslo patentu: 254656
Dátum: 15.01.1988
Autori: Pecár Ivan, Ferdinandy Milan, Král Jozef, Liska Dušan
MPK: C23C 14/48, C23C 14/30
Značky: substráte, elektricky, pevnom, vodivom, spôsob, vrstvy, přípravy, oteruvzdornej, tenkej, karbidu, titanu
Text:
...uhľovodíka plynule zvyšuje V intervale pomerov k titánu od 0,2 do 0,7 a za tým v intervale od 0,7 do 1,0.Ďalej je podľa vynálezu účelne, aby povrch pevného elektricky vodivého substrátu bol bombardovaný iónmi inertného plynu, čo» spôsobuje odprašovanie adsorbovaných vrstiev z jeho povrchu a súčasne ohrev substrátu na požadovanú teplotu.Vrstvy na báze karbldu titánu pripravené podľa vynálezu sa vyznačujú požadovanou adhéziou k povliekanêmu...
Spôsob prípravy 1-(2, 6-dimetylfenoxy)-2-propanónu
Číslo patentu: 246872
Dátum: 15.01.1988
Autori: Ferdinandy Milan, Liska Dušan, Sobota František, Mura Ján, Lachovie Peter, Pastierovie Ivan
MPK: C07C 49/175
Značky: 1-(2, spôsob, 6-dimetylfenoxy)-2-propanónu, přípravy
Text:
...Po pridaní všetkého množstva sa teplota udržuje ešte 3 hodiny. Anorganické soli sa odsajú, filtrát sa zahustí za väkua a zbytok sa desti 246872luje za zníženého tlaku. Získa sa 13,7 g 76 percent látky vzorca I s teplotou varu 136 až 138 °C/2,4 kPa.Postupuje sa analogicky podľa bodu 1 s tým rozdielom, že sa dimetylformamid nahradí acetönom ako reakčné prostredie. Získa sa 11,7 až 12,6 g 65 až 70 0/0 látky vzorca I.Roztok 2,6-dimetylfenolátu...
Zariadenie na rotáciu súčiastok vo vákuových zariadeniach počas vytvárania vrstiev
Číslo patentu: 252970
Dátum: 15.10.1987
Autori: Ferdinandy Milan, Pecár Ivan, Král Jozef, Liska Dušan, Gajdoš Andrej, Semsey Ladislav
MPK: C23C 14/00
Značky: vrstiev, počas, rotáciu, zariadenie, vytvárania, vakuových, súčiastok, zariadeniach
Text:
...pohybe odvodenom od unášača 2 cez hriadel 3, ktorý je oddelený spojkou 4 z izolačného materiálu, od vákuotesne utesnenáho zo strany vonkajšej atmosféry poháňaného hriadela 5, cez ozubenékolesá 6 uchytené v unášači 2 a pevné rozvádzacie koleso s vnútorným ozubenim 7,ktoré je elektricky odizolované a mechanicky spojené s držiakom 8 uchytenom na chladenej prírube 9, cez ktorú je vedený svornikom 1 D vysoký potenciál na puzdro 11, odizolované...
Vákuová komora pre zariadenie na iónové plátovanie a iónovú implantáciu
Číslo patentu: 252966
Dátum: 15.10.1987
Autori: Pecár Ivan, Král Jozef, Semsey Ladislav, Ferdinandy Milan, Liska Dušan, Gajdoš Andrej
MPK: C23C 14/56
Značky: komora, iónovú, implantáciu, iónové, vakuová, zariadenie, plátovanie
Text:
...pomerom dĺžky ku prierezu súčiastok. Vákuové komory takýchto zariadení sú bud horizontálne, alebo vertikáĺne orientované a sú v tvare valca alebo hranola, ktoré sú osovo sümerné. Ak by sme použili vákuové komory, ktorých by dĺžka bola dostatočná pre umiestnenie súčiastok hriadeľového tvaru, potom by to bolí jednoúčelovo konštruované zariadenia, čím by bola obmedzená po 4žadovaná univerzálnost uvedených typov vákuových zariadení. Uvedené...
Spôsob vytvárania tenkých vrstiev karbidu wolfrámu na elektricky vodivom substráte
Číslo patentu: 252860
Dátum: 15.10.1987
Autori: Ferdinandy Milan, Liska Dušan, Král Jozef, Czajlík Mikuláš
MPK: C23C 14/16, C23C 14/48
Značky: spôsob, vytvárania, tenkých, substráte, vrstiev, karbidu, elektricky, wolframu, vodivom
Text:
...ipľĺľ-ľliälVé, dosahujú ipožaudsovainú »čisrtotu, ~s možnosťou dosiąachinruitiwai vysokej rýcihluoxslti paletu vrstvy počars inalrnášamila, krtorá závisí na rvohllositi islurblimecile ih 1 exva 1 kierbvonyuliu~ wolfrámu, ikrtorú možrno regulovať intenzitou jeho orhreviu. Ďalšou výhxodiou vsrpôswobu podľa vymálezu je možnost ovplyvňovať zloženie,šnruikrtüunu, a -mechenicilvě vlaetnnoeti ivmstvy, 4a to veľlkosifou tlaku vo nváikoovewj...
Spôsob vytvárania tenkých vrstiev wolfrámu na elektricky vodivom substráte
Číslo patentu: 252859
Dátum: 15.10.1987
Autori: Czajlík Mikuláš, Liska Dušan, Ferdinandy Milan, Král Jozef
MPK: C23C 14/48, C23C 14/16
Značky: spôsob, tenkých, elektricky, vodivom, vytvárania, substráte, vrstiev, wolframu
Text:
...epočiva v diem, že »takto vytvorené vnetvy dosahujú vysokú čistom s minimálnym oslisiathovm zbytvkoveh~o~ whlŕka, čo je dané podimiemk-ami vekwa a rozkledlomi hexakairbooyhu w-o 1 f~rámu~ v podmieril~rach plazmy. Ďalšia vvliordia spôsobu ,podľa vylnelezui spočiva. v utom, že zmenou eleiklirických perametrrov pri etimuláoii plazmy možno regulovať vlaedinolsiti vrxetiev napr. šttmikrúru. üb 252859-drobne rýrohhosť-o-u s-ublinmácie...
Spôsob vytvárania oteruvzdornej vrstvy nitridu titánu na pevnom elektricky vodivom substráte
Číslo patentu: 252707
Dátum: 15.10.1987
Autori: Král Jozef, Czajlík Mikuláš, Ferdinandy Milan, Liska Dušan
MPK: C23C 14/16, C23C 14/48
Značky: oteruvzdornej, elektricky, vodivom, spôsob, titanu, pevnom, substráte, vrstvy, vytvárania, nitridů
Text:
...zvyčajne argónom, a parami sublimujúceho hemakarbonylu volfrámu pri zníženom tlaku z intervalu 104 Pa až 10 Pa, za čím sa bezprostredne na pevný elektricky vodivý substrát pôsobí plazmou tvorenou dusíkom a paraml od parovaného titanu za zníženého tlaku z intervalu 103 Pa až 1 D Pa.Podstata vynálezu je bližšie vysvetlená na nasledovných príkladoch.Oceľový substrát bol umiestnený vo vákuovej komore odčerpanej na počiatočný tlak 105 Pa, ako...
Elektrónový odparovač s dutou katódou na odparovanie materiálov vo vákuu
Číslo patentu: 251971
Dátum: 13.08.1987
Autori: Liska Dušan, Ferdinandy Milan, Král Jozef, Pecár Ivan
MPK: C23C 14/24
Značky: odparovač, odparovanie, materiálov, elektronový, vakuu, katodou, dutou
Text:
...odparovacieho zdroja do vákuových zariadení pre napar-ovanie a ionové plátovanie, vysoký výkon a vysokú odparovaciu rýchlosť, je výrobne jednoduché a keďže nepotrebuje špeciálne nákladné napájacie zdroje, pretože môže byt napájaný z dostupných univerzálnych elektrických zdrojov, je ekonomickejši ako naparovacie zdroje s elektrónovým lúčom s priamožeravenou katódou.Na priloženom obrázku je znázornená konštrukčné riešenie elektrónového...
Spôsob prípravy tvrdej oteruvzdornej vrstvy na hliníkových zliatinách
Číslo patentu: 251458
Dátum: 16.07.1987
Autori: Král Jozef, Ferdinandy Milan, Liska Dušan
MPK: C23C 10/08, C23C 14/30, C23C 14/48...
Značky: oteruvzdornej, tvrdej, zliatinách, vrstvy, hliníkových, přípravy, spôsob
Text:
...dosahuje hodnôt 15 D 00 až 35 000 N . mm.Podstata vynálezu e bližšie vysvetlená na nasledovných príkladoch.Substrát z hliníkovej zliatiny buol umiestnený vo vákuovej komore odčerpanej na počiatočný tlak 104 Pa, ako elektróda tvoriaca katódu v iónovoplátovacom systéme. Po očístení substrátu V tlejivom výboji Ar pri tlaku 10 Pa a zápornom elektrickom potenoiáli « 2,8 kV na hliníkovom substráte oproti uzemnenej vákuovej komore, bol me...
Sposob prípravy tenkých vrstiev na substráte z titánu alebo jeho zliatin
Číslo patentu: 250859
Dátum: 14.05.1987
Autori: Král Jozef, Ferdinandy Milan, Liska Dušan
MPK: C23C 14/48, C23C 14/30
Značky: zliatin, vrstiev, substráte, přípravy, tenkých, spôsob, titanu
Text:
...vlastností talkto pripravenej vrstvy je možno ovplyvňovať zmenou rýchlosti oćlparovania hlinílka v intervale 0,01 až 10,0 g.min 1,ďalej prúdovou .hustotou z intervalu 0,1 až 3,0 mA . om a zmenou parciálneho tlaku zmesi plynov inertného plynu a dusíka.Vrstva vytvorená spôsobom podľa vynálezu sa vyznačuje oproti vrstve pripravenej bez prítomnosti dwsíska zvýšenou tvndosťou a najmä nižším stupňom opotrełbenia. Pri povrchovej nitridácii sulbstrátu...
Sposob priamej tvorby vrstvy TiA13 v povrchovej vrstve titánu a jeho zliatin
Číslo patentu: 249917
Dátum: 15.04.1987
Autori: Král Jozef, Liska Dušan, Ferdinandy Milan
MPK: C23C 14/30, C23C 14/48
Značky: priamej, vrstvě, povrchovej, zliatin, titanu, tia13, tvorby, vrstvy, spôsob
Text:
...vytvorenia protidifúznej bariéry na p-ovrchu substrátu. Táto skutočnosť spolu s experimentálne overenou vlastnosťou TiAls a to,že koeficient Al v TiAls je ne ovela vyšší než Al v Ti, poskytuje možnost vytvárať TiAls vrstvu aj pri nižších teplotách než 600 C za kratší čas.spôsobom podla vynálezu sa na titáne a jeho zliatinách vytvárajú difúzne vrstvy z intermetalicke zlúčeniny TiAls, prípadne TiAl 3 Al, ktorých mikrotvrdost je 11000 až 15...
Sposob tvorby TiA13 difúznej vrstvy na titáne a jeho zliatinách
Číslo patentu: 249915
Dátum: 15.04.1987
Autori: Liska Dušan, Diko Pavel, Král Jozef, Ferdinandy Milan
MPK: C23C 10/08, C23C 14/48, C23C 14/30...
Značky: difúznej, titáne, zliatinách, tvorby, spôsob, vrstvy, tia13
Text:
...prebieha ťažšie a preto musia byť podmienky žíhaniia iné.Výber možno objasniť podla nasledujúcích príkladovPred samotným procesom vytvárania Al vrstvy na titánovej zliatine OT 4-1 sa vákuová komora zariadenia pre iónové plátovanie odčerpe na tlak rádove 105 Pa. Al je odparovaný pomocou elektrónového lúča, čo zabezpečuje vysokú rýchlost rastu Al vrstvy a oproti odparovaniu z odparovanéhwo zdroja tiež vyššiu kinetickú energiu odparoVaných Al...
Sposob vytvárania tenkých vrstiev wolfrámu na pevnom substráte
Číslo patentu: 248976
Dátum: 12.03.1987
Autori: Liska Dušan, Ferdinandy Milan, Czajlík Mikuláš, Timková Mária, Král Jozef
MPK: C23C 16/16
Značky: wolframu, tenkých, substráte, spôsob, vytvárania, vrstiev, pevnom
Text:
...substrâtov je teplota nižšia ako teplota ich štruktürnych zmien, prípadne teplota nižšia ako teplota ich poškodenia. Ďalšou výhodou daného spôsobu nanášanie ten 4kých vrstiev volfrámu na pevný silbstrát je to, že produkty rozklxadu hexakarbonylu volfrámu, volfrám a molekuly CO, nespôsobujo korózne poškodenie substrátu a vakuového zariadenia.Podstata predloženého vynálezu je bližšie objasnená pomocou priloženeho výkresu, na ktorom je...
Zariadenie na odparovanie materiálov vo vákuu elektrónovým lúčom s výkonom do 15 kW
Číslo patentu: 248554
Dátum: 12.02.1987
Autori: Ferdinandy Milan, Král Jozef, Pecár Ivan, Liska Dušan
MPK: C23C 14/24
Značky: materiálov, zariadenie, lúčom, odparovanie, výkonom, elektrónovým, vakuu
Text:
...jeho konštrukcia zabezpečuje ĺahkú údržbu, pohodlná reguláciu a nastavenie zväzku elektrőnov, zníženie hmotnosti a nárokov na pracnost výroby, zvýšenú ochranu pred posobením cdrazovýoh elektrőnov a výbornú adaptivnost pre zariadenia na iőnové plátovanie.Konštrukčná riešenie zariadenia znázornená na priloženom výkrese na obr. l, 2 a 3 v nárýse, podoryse a bokorysel pozostáva z medeného kelimku ł, ktorý je vyhotovený z dvoch nerozoberateĺne...