Patenty so značkou «vyvíjanie»
Zariadenie na vyvíjanie tepelného toku
Číslo patentu: E 2459
Dátum: 13.10.2004
Autori: Dupin Jean-louis, Heitzler Jean-claude, Muller Christian
MPK: F25B 21/00
Značky: vyvíjanie, tepelného, zariadenie
Text:
...jedného chladiaceho prostriedku. V druhej polohe vytvára materiál schopný zmagnetizovania teplo a prostriedky na prenos tepla získavajú teplo z materiálu schopného zmagnetizovania varom. alebo ohrevom druhého chladiaceho prostriedku. Celková účinnosť týchto systémov je mimoriadne nízka a nemôže súťažiť so súčasnými chladiacimi systémami, pokiaľ ide o účinnosť. Toto zariadenie teda nie je ekonomicky vyhovujúce.0007 Štúdie vykonávané V...
Katóda na vyvíjanie vodíka z roztokov hydroxidu alkalického kovu
Číslo patentu: 278642
Dátum: 10.12.1997
Autor: Nidola Antonio
MPK: C25B 11/06
Značky: vodíka, katoda, vyvíjanie, roztokov, hydroxidů, alkalického
Zhrnutie / Anotácia:
Katóda na vyvíjanie vodíka z roztokov hydroxidu alkalického kovu, pozostávajúca zo substrátu tvoreného elektrovodivým kovom a z vonkajšieho povlaku obsahujúceho 1 až 50 % dispergovaných pevných častíc elektrokatalytických materiálov zo súboru zahrnujúceho titán, zirkón, niób, hafnium, tantal, kovy skupiny platiny, nikel, kobalt, cín a mangán vo forme kovov, zliatin, oxidov, zmiešaných oxidov, boridov, nitridov, karbidov alebo sulfidov, alebo...
Zariadenie na vyvíjanie pary
Číslo patentu: U 738
Dátum: 08.02.1995
Autor: Kurtulík Ján
MPK: F22B 37/72, F22B 37/22
Značky: vyvíjanie, zariadenie
Text:
...celkový priečny rez technologickou komorou a obr.2 znázorňuje rez rovinouPríklad Lglggłgčncmím technického riešeniaV technologickej komore 1 (obr.1.) je usporiadaná odparovacia jednotka g, ktorá pozostáva 2 labyrintového tunela gl a z akumulačnej sekcie gg. V labyrintovom tuneli gl(obr.2) sú vzájomne nad sebou usporiadané spádové lišty gą,z ktorých najnižšie položené vyúsťujú do sacieho vstupu gł ventilátora §. Ventilátor má...
Zariadenie na vyvíjanie plazmy
Číslo patentu: 224954
Dátum: 01.12.1984
Autor: Novanský Vít
Značky: zariadenie, plazmy, vyvíjanie
Zhrnutie / Anotácia:
Zariadenie na vyvíjanie plazmy vyznačené tým, že pozostáva zo žiaruvzdorného telesa /3/ umiestneného v delenom plášti /11/, z usmerňovacieho potrubia /5/ osadeného v prednej časti žiaruvzdorného telesa /3/ a opatreného špirálovite natočeným prívodným potrubím /7/ ústiacim do kanálov /1/ žiaruvzdorného telesa /3/, do ktorých ústia otvory /6/ pre posuvné uloženie elektród /2/ pričom kanály /1/ majú vývody /4/ vyústené do usmerňovacieho potrubia...