Vincenc Oboňa Jozef
Spôsob tvarovania tenkých vrstiev v kryoelektronike s použitím fullerénu C60
Číslo patentu: 286586
Dátum: 29.12.2008
Autori: Vincenc Oboňa Jozef, Chromik Štefan
MPK: H01L 39/24, H05K 3/02, G03F 7/027...
Značky: vrstiev, použitím, tvarovania, tenkých, kryoelektronike, fullerénu, spôsob
Zhrnutie / Anotácia:
Pri výrobe štruktúr s využitím tvarovaných tenkých vrstiev YBCO, potrebných pre kryoelektroniku, sa často stáva, že použitá maska v kombinácii s použitým leptadlom nezabezpečí kvalitný výsledok. Objavujú sa chyby nedokonale odleptaných plôch so zvyškami rezíduí, chyby následkom podleptania vytvarovaných motívov atď. Vynález rieši výrobu masky z fullerénu C60, ktorý sa nanáša na inverznú masku vyrobenú optickou litografiou pomocou vákuovej...
Spôsob tvarovania submikrometrových štruktúr v kryoelektronike využitím fullerénu C60
Číslo patentu: 286519
Dátum: 12.11.2008
Autori: Chromik Štefan, Vincenc Oboňa Jozef, Kostič Ivan
MPK: H01L 39/24, C23C 16/04, H01L 39/14...
Značky: kryoelektronike, spôsob, struktur, využitím, tvarovania, submikrometrových, fullerénu
Zhrnutie / Anotácia:
Vynález rieši výrobu masky z fullerénu C60, ktorý sa nanáša na inverznú masku vyrobenú elektrónovou litografiou, prípadne hlbokou UV litografiou pomocou vákuovej depozície. Pomocou lift-off techniky sa z týchto dvoch vrstiev vyrobí pozitívna maska C60 spôsobilá kvalitne zabezpečiť odprášenie pomocou argónového zväzku.