Pecár Ivan

Vákuový doskový ventil

Načítavanie...

Číslo patentu: 264848

Dátum: 12.09.1989

Autori: Král Jozef, Ferdinandy Milan, Pecár Ivan, Liska Dušan, Semsey Ladislav

MPK: F16K 51/02

Značky: vakuový, ventil, doskový

Text:

...nárys v čiastočnom reze vákuového doskového vevtilu podľa vynálezu v uzavretom stave. obr. 2 znázorňuje bokorys v reze. Obr. 3 zobrazuje rez B-B aDoskový vákuový ventil znázornený na pripojených obrázkoch pozostáva z telesa l, ktoré je z boku opatrené púzdrom 3, ktorého rozmer odpovedá rozmeru dosky Q danej svetlostou prierezu ventilu, oproti ktorému je príruba gg, v ktorej je uložené posuvné tiahlo Ä vykonávajúce vratný posuvný pohyb...

Spôsob úpravy povrchových a podpovrchových vrstiev kontaktných ploch odvalovania

Načítavanie...

Číslo patentu: 261694

Dátum: 10.02.1989

Autori: Pecár Ivan, Král Jozef, Hancin Jozef, Mruz Vladimír, Halásek Jiří, Širila Tibor, Stolař Pavel, Ferdinandy Milan, Liska Dušan

MPK: F16C 33/12

Značky: odvalovania, úpravy, podpovrchových, povrchových, ploch, vrstiev, kontaktných, spôsob

Text:

...12, 17 a 19 žijhanýchna mäkko pokrytá antireflexným povlakom sa ožaruje laserovým lúč-om pod uhlom dopadu lúwča v rozsahu od 85 ° do 95 °, pri plošnej hustote výkonu v rozsah-u 105 až 10 É Wcm .a hustote energie v rozsahu 10.10 až 150 . 10 Mjmď, pričom sa sto-pa pôsobenia lúča prekrýva v rozsahu 0,1 až 0,4 mm a takto upravená plocha sa následne leští na drsnost povrchu Ra x 0,4 až 0,2 m, zla čím sa na takto pripravený povrch pôsobí plazmou...

Sposob prípravy oteruvzdornej tenkej vrstvy karbidu titánu na elektricky vodivom pevnom substráte

Načítavanie...

Číslo patentu: 254656

Dátum: 15.01.1988

Autori: Ferdinandy Milan, Liska Dušan, Král Jozef, Pecár Ivan

MPK: C23C 14/48, C23C 14/30

Značky: vrstvy, vodivom, elektricky, tenkej, oteruvzdornej, titanu, karbidu, přípravy, pevnom, substráte, spôsob

Text:

...uhľovodíka plynule zvyšuje V intervale pomerov k titánu od 0,2 do 0,7 a za tým v intervale od 0,7 do 1,0.Ďalej je podľa vynálezu účelne, aby povrch pevného elektricky vodivého substrátu bol bombardovaný iónmi inertného plynu, čo» spôsobuje odprašovanie adsorbovaných vrstiev z jeho povrchu a súčasne ohrev substrátu na požadovanú teplotu.Vrstvy na báze karbldu titánu pripravené podľa vynálezu sa vyznačujú požadovanou adhéziou k povliekanêmu...

Zariadenie na rotáciu súčiastok vo vákuových zariadeniach počas vytvárania vrstiev

Načítavanie...

Číslo patentu: 252970

Dátum: 15.10.1987

Autori: Gajdoš Andrej, Pecár Ivan, Král Jozef, Ferdinandy Milan, Liska Dušan, Semsey Ladislav

MPK: C23C 14/00

Značky: vakuových, vytvárania, vrstiev, zariadeniach, počas, súčiastok, zariadenie, rotáciu

Text:

...pohybe odvodenom od unášača 2 cez hriadel 3, ktorý je oddelený spojkou 4 z izolačného materiálu, od vákuotesne utesnenáho zo strany vonkajšej atmosféry poháňaného hriadela 5, cez ozubenékolesá 6 uchytené v unášači 2 a pevné rozvádzacie koleso s vnútorným ozubenim 7,ktoré je elektricky odizolované a mechanicky spojené s držiakom 8 uchytenom na chladenej prírube 9, cez ktorú je vedený svornikom 1 D vysoký potenciál na puzdro 11, odizolované...

Vákuová komora pre zariadenie na iónové plátovanie a iónovú implantáciu

Načítavanie...

Číslo patentu: 252966

Dátum: 15.10.1987

Autori: Pecár Ivan, Semsey Ladislav, Liska Dušan, Ferdinandy Milan, Král Jozef, Gajdoš Andrej

MPK: C23C 14/56

Značky: iónové, plátovanie, zariadenie, implantáciu, komora, iónovú, vakuová

Text:

...pomerom dĺžky ku prierezu súčiastok. Vákuové komory takýchto zariadení sú bud horizontálne, alebo vertikáĺne orientované a sú v tvare valca alebo hranola, ktoré sú osovo sümerné. Ak by sme použili vákuové komory, ktorých by dĺžka bola dostatočná pre umiestnenie súčiastok hriadeľového tvaru, potom by to bolí jednoúčelovo konštruované zariadenia, čím by bola obmedzená po 4žadovaná univerzálnost uvedených typov vákuových zariadení. Uvedené...

Elektrónový odparovač s dutou katódou na odparovanie materiálov vo vákuu

Načítavanie...

Číslo patentu: 251971

Dátum: 13.08.1987

Autori: Ferdinandy Milan, Pecár Ivan, Král Jozef, Liska Dušan

MPK: C23C 14/24

Značky: katodou, dutou, materiálov, odparovač, vakuu, odparovanie, elektronový

Text:

...odparovacieho zdroja do vákuových zariadení pre napar-ovanie a ionové plátovanie, vysoký výkon a vysokú odparovaciu rýchlosť, je výrobne jednoduché a keďže nepotrebuje špeciálne nákladné napájacie zdroje, pretože môže byt napájaný z dostupných univerzálnych elektrických zdrojov, je ekonomickejši ako naparovacie zdroje s elektrónovým lúčom s priamožeravenou katódou.Na priloženom obrázku je znázornená konštrukčné riešenie elektrónového...

Zariadenie na odparovanie materiálov vo vákuu elektrónovým lúčom s výkonom do 15 kW

Načítavanie...

Číslo patentu: 248554

Dátum: 12.02.1987

Autori: Král Jozef, Pecár Ivan, Liska Dušan, Ferdinandy Milan

MPK: C23C 14/24

Značky: odparovanie, lúčom, výkonom, vakuu, zariadenie, elektrónovým, materiálov

Text:

...jeho konštrukcia zabezpečuje ĺahkú údržbu, pohodlná reguláciu a nastavenie zväzku elektrőnov, zníženie hmotnosti a nárokov na pracnost výroby, zvýšenú ochranu pred posobením cdrazovýoh elektrőnov a výbornú adaptivnost pre zariadenia na iőnové plátovanie.Konštrukčná riešenie zariadenia znázornená na priloženom výkrese na obr. l, 2 a 3 v nárýse, podoryse a bokorysel pozostáva z medeného kelimku ł, ktorý je vyhotovený z dvoch nerozoberateĺne...