H05K 3/02

Spôsob tvarovania tenkých vrstiev v kryoelektronike s použitím fullerénu C60

Načítavanie...

Číslo patentu: 286586

Dátum: 29.12.2008

Autori: Vincenc Oboňa Jozef, Chromik Štefan

MPK: H01L 39/24, G03F 7/027, H05K 3/02...

Značky: tenkých, tvarovania, vrstiev, spôsob, kryoelektronike, použitím, fullerénu

Zhrnutie / Anotácia:

Pri výrobe štruktúr s využitím tvarovaných tenkých vrstiev YBCO, potrebných pre kryoelektroniku, sa často stáva, že použitá maska v kombinácii s použitým leptadlom nezabezpečí kvalitný výsledok. Objavujú sa chyby nedokonale odleptaných plôch so zvyškami rezíduí, chyby následkom podleptania vytvarovaných motívov atď. Vynález rieši výrobu masky z fullerénu C60, ktorý sa nanáša na inverznú masku vyrobenú optickou litografiou pomocou vákuovej...