G03F 7/027

Fotopolymérna formulácia s nastaviteľným mechanickým modulom Guv

Načítavanie...

Číslo patentu: E 11698

Dátum: 03.11.2009

Autori: Hönel Dennis, Fäcke Thomas, Bruder Friedrich-karl, Weiser Marc-stephen, Rölle Thomas

MPK: G03H 1/00, G11B 7/24, G03F 7/027...

Značky: mechanickým, formulácia, modulom, nastavitelným, fotopolymérna

Text:

...profilu použitia daných médií vyrobiť médiá s defmovanými modulmi, ktorésa v ich kontraste indexu lomu An sotva líšia. To má pre výrobcov fotopolymémych formu lácií tú výhodu, že pri obmedzenom počte vhodných zložiek môžu byť poskytnuté fotopolyméme formulácie, ktoré spĺňajú požiadavky ich aplikácie a ich použitia, medzi ktorými hrá rozhodujúcu úlohu mechanický modul, bez toho aby sa koncový užívateľ musel uchýliť kukompromisom...

Fotopolymérové systémy pre optické prvky a vizuálne znázornenie

Načítavanie...

Číslo patentu: E 10767

Dátum: 19.09.2009

Autori: Hönel Dennis, Weiser Marc-stephan, Fäcke Thomas, Bruder Friedrich-karl, Roelle Thomas, Stoeckel Nicolas

MPK: C08G 18/76, C08G 18/67, C08G 18/77...

Značky: prvky, fotopolymérové, systémy, vizuálne, optické, znázornenie

Text:

...ktoré sú ale tiež veľmi slabé, a ktoré sú čítateľné iba s elektronickými detektormi. Na optické použitie v celej viditeľnej oblasti nie sú takéto zmesiZ nezverejnenej PCT prihlášky PCT/EP 2008/002464 sú známe zmesi uretánakrylátov, ako záznamových monomérov, v polyuretánových matríciach. Ako Záznamové monoméry, tak aj ichmnožstevné oblasti, ako aj možné oblasti použitia, sa opisujú nekonkrétne široko.Vychádzajúc z PCT/EP 2008/002464 sa...

Spôsob tvarovania tenkých vrstiev v kryoelektronike s použitím fullerénu C60

Načítavanie...

Číslo patentu: 286586

Dátum: 29.12.2008

Autori: Vincenc Oboňa Jozef, Chromik Štefan

MPK: G03F 7/027, H01L 39/24, H05K 3/02...

Značky: použitím, spôsob, fullerénu, kryoelektronike, tvarovania, tenkých, vrstiev

Zhrnutie / Anotácia:

Pri výrobe štruktúr s využitím tvarovaných tenkých vrstiev YBCO, potrebných pre kryoelektroniku, sa často stáva, že použitá maska v kombinácii s použitým leptadlom nezabezpečí kvalitný výsledok. Objavujú sa chyby nedokonale odleptaných plôch so zvyškami rezíduí, chyby následkom podleptania vytvarovaných motívov atď. Vynález rieši výrobu masky z fullerénu C60, ktorý sa nanáša na inverznú masku vyrobenú optickou litografiou pomocou vákuovej...