Čeppan Michal

Spôsob rozlíšenia použitia viacerých tlačiarní v jednom vytlačenom dokumente

Načítavanie...

Číslo patentu: U 7215

Dátum: 04.08.2015

Autori: Gál Lukáš, Reháková Milena, Dvonka Vladimír, Šimonová Simona, Uváčková Alena, Jabconová Adriána, Čeppan Michal, Belovičová Michaela, Belányiová Eva

MPK: G01J 3/42, G01N 21/35

Značky: jednom, dokumente, vytlačenom, tlačiarní, použitia, spôsob, rozlíšenia, viacerých

Text:

...spektier je možné použiť ľubovoľný reflexný spektrometer určený na meranie spektier v uvedených oblastiach.Prehľad obrázkov na výkresochNa obrázku 1 sú znázornené FTIR-ATR spektrá tlače na troch miestach skúmaného dokumentu s laserovými výtlačkami (miesto A - čierna, miesto B - stredne sivá, miesto C - bledosivá, Im je relatívna jednotka odrazivosti).Na obrázku 2 je znázornený rozptylový diagram komponentového skóre FTIR-ATR spektier...

Spôsob úpravy archívnych papierových nosičov

Načítavanie...

Číslo patentu: 286412

Dátum: 21.08.2008

Autori: Reháková Milena, Mikula Milan, Havlínová Bohuslava, Čepcová Katarína, Čeppan Michal, Maková Alena, Katuščák Svetozár

MPK: D21H 25/00

Značky: nosičov, spôsob, úpravy, papierových, archívnych

Zhrnutie / Anotácia:

Spôsob úpravy archívnych papierových nosičov po odstránení kyslých rozpustných produktov predpieraním deionizovanou vodou a následnej deacidifikácii, pri ktorom sa papierové nosiče podrobia pôsobeniu reagentov ponorením do ich roztoku, ktorého podstata spočíva v tom, že deacidifikácia sa uskutočňuje hydrogenuhličitanom horečnatým alebo hydrogenuhličitanom vápenatým, alebo dvojstupňovo hydrogenuhličitanom horečnatým a následne...

Podložka s negatívne pracujúcou svetlocitlivou vrstvou

Načítavanie...

Číslo patentu: 279003

Dátum: 06.04.1994

Autori: Lapčík Ľubomír, Kovalčík Martin, Čeppan Michal, Mistr Adolf, Prachařová Marie, Veselý Michal

MPK: G03G 7/00

Značky: negatívne, pracujúcou, svetlocitlivou, podložka, vrstvou

Zhrnutie / Anotácia:

Riešenie sa týka podložky s negatívne pracujúcou svetlocitlivou vrstvou na fotochemickú reprodukciu pri chemickom obrábaní, ktorá je tvorená kovovou podložkou a svetlocitlivou vrstvou, kde svetlocitlivá vrstva pozostáva z 90 až 98 % hmotn. fenolformaldehydovej alebo substituovanej fenolformaldehydovej živice, z 2 až 10 % hmotn. antracénu a z 0,01 až 0,5 % hmotn. singletového senzibilátora, pričom svetlocitlivá vrstva obsahuje 0,05 až 1 % hmotn....

Sposob hydrofobizácie SiO2 povrchov

Načítavanie...

Číslo patentu: 266298

Dátum: 13.12.1989

Autori: Zelenay Emil, Flassik Robert, Škyrta Ján, Veselý Michal, Čeppan Michal, Lodes Antonín, Brezová Vlasta, Blecha Jozef, Kovalčík Martin, Mikula Milan, Lapčík Ľubomír

MPK: G03F 7/16

Značky: hydrofóbizácie, povrchov, spôsob

Text:

...škoricový aldehyd) a nasorbovaný povrch sa vystaví po dobu 3 až 15 sekúnd účinku nizkoteplotnej plazmy o výkone 10 až 30 W budenej vo vzduchu alebo kyslĺku (výhodne pri nizkom tlaku) vysokofrekvenčným, striedavým alebo jednosmerným generátorom plazmy. K vytvoreniu chemicky aktívnych systémovmolekúl aromatického aldehydu s excitovanými časticami plazmy, elektrónmi a fotônmi cestou rudikálových reakcií. Takýto aktívny systém je schopný...

Pomocný prostriedok pre inkrustačné morenie osív a sadív

Načítavanie...

Číslo patentu: 266253

Dátum: 13.12.1989

Autori: Kovalčík Martin, Lapčík Ľubomír, Brezová Vlasta, Lodes Antonín, Blech Jozef, Čeppan Michal, Bartalský Karol, Dubina František, Ember Karol Ing

MPK: A01N 25/10

Značky: pomocný, morenie, prostriedok, osív, sadív, inkrustačné

Text:

...je acetón a etylacetát, díoxan a etylacetát alebo etylmetylketón a etanol a 0,5 až J hmot. farebného indíkátora, ktorým je potravinárske farbivo rozpustné v niektorom z použitých rozpúštadiel. voľbou zloženia zmesnéhorozpúštadla možno upravit odparívosť výsledného pomocného prostriedku v rozmedzí 2 až 8výsledný produkt predstavuje systém dokonale adhezny na povrch semena. Po zaschnuti sa vytvorí rovnomerná vrstvička vyfarbeného polyméru...

Spôsob odstraňovania fotorezistu a čistenia povrchov oxidu kremičitého a kremíka v planárnej technológii výroby mikroelektronických prvkov a integrovaných obvodov

Načítavanie...

Číslo patentu: 225446

Dátum: 01.10.1984

Autori: Lapčík Ľubomír, Škyrta Ján, Lodes Antonín, Čeppan Michal, Blecha Jozef, Blažej Anton Akademik, Mastihuba Milan, Zelenay Emil, Valášek Jaroslav

Značky: obvodov, integrovaných, mikroelektronických, technologii, prvkov, výroby, odstraňovania, oxidů, povrchov, spôsob, fotorezistu, křemičitého, kremíka, plánárnej, čistenia

Zhrnutie / Anotácia:

Spôsob odstraňovania fotorezistu a čistenia povrchov oxidu kremičitého a kremíka v planárnej technológii výroby mikroelektronických prvkov a integrovaných obvodov vyznačujúci sa tým, že na fotorezist situovaný na povrchu oxidu kremičitého, kremíka alebo na iných tuhých povrchoch sa pôsobí 70 až 38 %-nou kyselinou sírovou za súčasného sýtenia fázového rozhrania "rezist/H2SO4" plynnou zmesou kyslíka a dusíka, obsahujúcou 0,1 až 3 % obj. ozónu za...