C23C 14/34

Spôsob výroby vrstiev oxidu kovu s vopred určenou štruktúrou postupom oblúkového odparovania

Načítavanie...

Číslo patentu: E 16992

Dátum: 06.02.2009

Autor: Ramm Jürgen

MPK: C23C 14/32, C23C 14/34, C23C 14/08...

Značky: výroby, strukturou, oblúkového, určenou, spôsob, oxidů, postupom, vopred, vrstiev, odparovania

Text:

...fáze. Výhodná je pritom zliatina z hliníka a chrómu. Použitie terča s iba jednou lcryštalografickou fázou vedie podľa tohto spisu k podstatne lepším bodovým vlastnostiam katódy.0018 Úlohou predkladaného vynálezu je poskytnúť spôsob výroby vrstiev oxidov kovu pomocou oblúkového odparovania, pri ktorom je možné spoľahlivo vylučovať vrstvy oxidov kovu s vopred určenou kryštalickou štruktúrou.0019 Táto úloha sa rieši spôsobom s...

Usporiadanie rozkladovej elektródy

Načítavanie...

Číslo patentu: E 8278

Dátum: 14.02.2007

Autori: Wagner Joachim, Steinert Folke, Hüttl Grit

MPK: C23C 14/34

Značky: usporiadanie, rozkladovej, elektrody

Text:

...rozkladovej elektródy. Na základe tuhosti tak rúrkového segmentu. ako ajnosného elementu a pre súosé usporiadanie nosného elementu a rúrkového segmentu sa však nedá lepidlo vnesené medzi nosný element arúrkový segment, z pohľadu v radiálnom smere, vstrekovať. Zlepenie nosného elementu a segmentu rozkladovej elektródy je teda v usporiadani rozkladovej elektródy s rúrkovými segmentmi rozkladovej elektródy v praxi ťažko realizovateľné.0008...

Jediný pravouhlý koncový blok

Načítavanie...

Číslo patentu: E 5182

Dátum: 23.02.2006

Autori: Lapeire Gregory, De Boever Joannes, De Bosscher Wilmert, Dellaert Krist

MPK: H01J 37/32, C23C 14/34

Značky: koncový, pravouhlý, jediný

Text:

...zlepšiť spracovanie menších substrátov, ako je napríklad veľkosť displeja z kvapalných kryštálov alebo plazmového displeja. Jednou z nevýhod pri používaní týchto trubicových terčov pri takých zariadeniach na vytváraniepovlakov na displejoch sú potrebné značné úpravy v súčasnej dobe existujúceho zariadenia.Teraz sa pri zariadení na vytváranie povlakov na displejoch používajú podlhovasté rovinné magnetrónové naprašovacie terče. Väčšina...

Plochý koncový blok na nesenie otočného naprašovacieho terča

Načítavanie...

Číslo patentu: E 5160

Dátum: 11.10.2005

Autori: Dellaert Krist, Lapeire Gregory, De Bosscher Wilmert, De Boever Joannes

MPK: C23C 14/34, H01J 37/32

Značky: koncový, plochy, naprašovacieho, otočného, nesenie, terča

Text:

...bloky sú namontované na stenu, ktorá je paralelná s osou otáčania terča. Tieto koncové bloky sú obvykle namontované na spodnú stranu vrchnej časti krytu obsahujúcej prídavné zariadenie. Pre ľahkú výmenu terča a údržbu sa môže vrchná časť krytu spolu skoncovými blokmi a namontovaným terčom ako celok zodvihnút zveľkoplošnéhoJednoduché priame koncové bloky, ktore sú opísané napr. v dokumente US 5,200,049(obr. l) a V ktorých sú všetky...

Zapojení pro regulaci procesu u zařízení se dvěma či více vakuovými nádobami pro chemicko-tepelné zpracování, zejména pro iontvou nitridaci

Načítavanie...

Číslo patentu: 260491

Dátum: 15.12.1998

Autori: Exner Milan, Rybář Oldřich, Michna Vladimír, Jakeš Jan, Routnerová Blanka, Routner Petr

MPK: C23C 14/34

Značky: procesu, nádobami, regulaci, vakuovými, dvěma, více, zapojení, zařízení, chemicko-tepelné, zejména, zpracování, iontvou, nitridaci

Text:

...snímači propoje-ni 17. Přívod elektrického proudu na horní katodu 18 nelbo spodní katodu 19 je proveden přes přepínací skříňku 14, propojenou s regulačním panelom 4, napájeným přes tyrístorový uvsměrňovač 3 z transformátoru 2.Na obr. 1 není ,podrobně znázorněno vzajemné propojení elektríckými vodiči, protože by tím byl obraz 1 nepřehledný. Vakuový systém 5 je na vakuovou nádobu 1 naípojen po-trunbím, které je na vakuovou měrku 2 U...

Spôsob naprašovania vrstiev a zariadenie na vykonávanie tohoto spôsobu

Načítavanie...

Číslo patentu: 277865

Dátum: 08.06.1994

Autori: Kadlec Stanislav, Musil Jindřich

MPK: C23C 14/34

Značky: tohoto, vrstiev, vykonávanie, zariadenie, spôsob, naprašovania, spôsobu

Zhrnutie / Anotácia:

Podľa spôsobu naprašovania tenkých oteruvzdorných vrstiev, najmä typu nitridu titánu sa zvyšuje hustota a homogenita iónového a elektrónového prúdu na substráty a umožňuje sa iónové plátovanie. Charakteristika plazmy je ovplyvňovaná tvarom magnetického poľa. Zariadenie pozostáva z elektromagnetov, posuvného anódového nadstavca alebo pomocnej elektródy.

Magnetron pro depozici tenkých vrstev ve vakuu

Načítavanie...

Číslo patentu: 269498

Dátum: 11.04.1990

Autori: Matuška Josef, Exner Milan, Frey Augustín, Kult Jaroslav, Stanislav Jiří

MPK: C23C 14/34

Značky: magnetrón, tenkých, vakuu, vrstev, depozicí

Text:

...posuvným dílem zadního víka magnetronu a vnitřním magnetickým polem roste podíl magnetického toku, protékajícího touto zadní deskou magnetronu a klesá tak intenzita magnetického pole na terči. se zvětšující se vzduchovou mezerou klesá podíl magnetického protékajícího toku parazítním polem a roste tak hodnota intenzity magnetického pole na terči.Magnetron podle vynálezu umožňuje pomocí změny polohy posuvného dílu zadní desky magnetronu měnit...

Způsob naprašování tenkých vrstev a zařízení k provádění tohoto způsobu

Načítavanie...

Číslo patentu: 261213

Dátum: 12.01.1989

Autor: Mckelvey Harold

MPK: C23C 14/34

Značky: vrstev, způsobu, tenkých, zařízení, naprašování, způsob, provádění, tohoto

Text:

...látka, například voda, která může vytékat otvory já v chladicím potrubí 35 do válcové trubice gr, ze které potom vytéká jejím vnějšímMagnetické prvky Q obsahují soustavu permanentních maqnetů 31, vytvořených ve tvarupísmena U, které jsou uspořádaný ve dvou přímých navzájem rovnohěžných řadách 5, g, probíhajících ve válcové trubici gł v podélném směru. Permanentní magnety Al každé řady Q, § jsou uspořádány v zákrytu a V podélném průměru...

Magnetron pro depozici tenkých vrstev ve vakuu

Načítavanie...

Číslo patentu: 258548

Dátum: 16.08.1988

Autori: Frey Augustín, Rybář Oldřich, Matuška Josef, Daďourek Karel, Exner Milan, Stanislav Jiří, Fidranský Miroslav

MPK: C23C 14/34

Značky: vakuu, depozicí, vrstev, tenkých, magnetrón

Text:

...počtu maqnetůuložených vedle sebe mezi tělesem magnetronu a vnitřním pólovým nástavcem.Vysoká hodnota magnetické indukce snižuje pracovní napětí magnetronu a tím se zmenšuje nebezpečí elektrických prúrazů k anodě. současně však i stahuje plasmatické pole před magnetronem směrem k targetu a tím se zmenšuje teplotní pole před targetem. To umožňuje nanášet vrstvy na substráty e nižšími teplotami tání při zachování vysokých deposičních...

Zařízení pro vysokovýkonné rozprašování na principu plazmatronu

Načítavanie...

Číslo patentu: 245743

Dátum: 15.07.1987

Autori: Oliva Klaus, Lehmann Heinz, Irmscher Helmut, Brauer Peter, Pötschke Hans-georg, Rossnick Heinz, Sperling Erhard, Weigelt Kurt, Panasjuk Anatolij Ivanovie

MPK: C23C 14/34

Značky: plazmatronu, princípu, zařízení, vysokovýkonné, rozprašování

Text:

...oóecneqeana óoanamoň rozumnu HBIIHJIHB V MOÉ EHGHICH K HDMPOĽHOTO ,UJIH HHHHJIGEEH HJIOCKHX CXGM PGCIIOJIOĽŠB EEK ĽOĽJIOEBK B OOOTBBTCTBEIII c naoópezrennem awa sanawxa pamatam-ca npn noMomI ycwpoñcnaa. cocwoamero na renepnpymero ąnenrpomaranmnoe none v npncnocoóneana o noJLsneBoň npopeaLm, anona n omamuaeuon amneHn na pacmmxemoro Marepuana TBM, rrro mnam mweer rconqmryparum rpyöu, Bayupn Koropoä pasmemamrca 011110 mm HGCKOJILKO...

Způsob vytváření tenkého nemagnetického povlaku na vnitřním povrchu dutého tělesa magnetronovým rozprašováním a zařízení k provádění tohoto způsobu

Načítavanie...

Číslo patentu: 248804

Dátum: 12.02.1987

Autori: Havel Josef, Hortlík František, Bárdoš Ladislav, Musil Jindřich, Štěpán Vladimír

MPK: C23C 14/34

Značky: provádění, nemagnetického, tělesa, vnitřním, rozprašováním, povrchu, zařízení, tenkého, způsob, dutého, způsobu, vytváření, tohoto, povlaků, magnetronovým

Text:

...plazmatického rozprašovaní. Substráty jsou uspořádány vně válcového rotujícího bubnu,přičemž během rotace je konvexní povrch bubnu vystaven plazmatu, ve kterém se rozprašují terčové segmenty. Soubor více na povrchu umístěných obloukových terčových segmentu tvoří v podstatě váleo a je uspořádán souose a teleskopicky vzhledem k bubnu. Terčové segmenty jsou katodou vysokonapětového elektrického obvodu a buben jeho anodou.Plocha terčové jednotky...

Způsob nanášení povlaku na elektricky izolační substráty pomocí iontů a zařízení k provádění tohoto způsobu

Načítavanie...

Číslo patentu: 240416

Dátum: 15.12.1986

Autori: Holländer Igor, Antalík Jozef, Vavra Jozef, Žatkovie Juraj

MPK: C23C 14/34

Značky: způsob, tohoto, nanášení, zařízení, elektricky, způsobu, povlaků, izolační, pomocí, iontů, substráty, provádění

Text:

...Hanecenna noxpumna c nomomwm uonon, npn BTOM cnenyer naóemawb BHCOKMX sarpaw Ha anmapawypy.B ocuony maoópemenna nonomena sanaqa cosnawb cnocoó n ycrpoücrno, nossonammue óeaynpeuno HaHOCMTL noxpuwnn Ha enexrpnqecxn MSOHHDYDMMG cyócmpawu npn npnmeneann Boaneücrnnñ MOHOB Man nnasmu npn coxpaneann upenmwmecra arnx Texnonormñ M npn npenownpameamn npnmeneňns cueunanbnum cornacymmmxCornacno naoópewennm sanauąaąsmaąmca rem, qwo B nnnnn nonnona...

Manipulační mechanismus

Načítavanie...

Číslo patentu: 239279

Dátum: 15.05.1985

Autori: Suran Pavol, Vodová Drahomíra, Eapek Emilián, Paoízek Bedoich, Stark Josef, Hájek Karel, Š?astný Karel, Holas Mikuláš

MPK: C23C 14/34

Značky: mechanismus, manipulační

Text:

...naprašovací zařízení s komorou l a komorou Ě v komoře ł je nosič se Vsázkou 3 umístěn na základně 3, která je pohybové ovládána /vysouvání aspouštění/ pomocí manipulačního válce Q.obě komory jsou odděleny vakuově těsnicím uzávěrem Q. V komoře Q jsou ve stěnáoh umístěny průchodky 1, g, 2, které jsou víceúčelová. Všechny průchodky jsou ve stěnách těsněny a odizolovány izolací lg.Do komory l je vsázka vložena na nosič vsázky 3, který je uložen...

Vakuová naprašovací komora

Načítavanie...

Číslo patentu: 239278

Dátum: 15.05.1985

Autori: Peška Václav, Harlass František, Ordáo Jan, Hnilieka Vladimír, Vrbata Josef, Kapucián Zdenik, Onderka Ludvík, Elhota Vojtich

MPK: C23C 14/34

Značky: naprašovací, komora, vakuová

Text:

...skříně, která je jako celek přestavitelná V rozsahu určitého posuvu. Vyšší účinek vynálezu spočívá v tom, že uspořádání maqnetronů, s měnitelnou vzdáleností, vytvářejí optimální podmínky pro naprašovací technologii při změně rozměrů součástí.Tento systém konstrukce umožňuje zpracovávat tvarově složité součástí, při dodržení rovnoměrné tlouštky, dále zkracuje čas depozice, a tím zvyšuje ekonomické parametry celéhoNa připojených výkresech je...

Zařízení pro naprašování tenkých vrstev magnetronovou depozicí

Načítavanie...

Číslo patentu: 239277

Dátum: 15.05.1985

Autori: Mainer Petr, Dohnal Karel, Švácha Miroslav, Zdarsa František Csc, Strueovský Jioí, Mrlina Jioí

MPK: C23C 14/34

Značky: tenkých, depozicí, magnetronovou, zařízení, naprašování, vrstev

Text:

...naprašování umožňuje využít souběžně dolní komoru pro tepelné zpracování do 600 °ca horní komoru pro naprašování.Na připojenýoh výkresech je znázorněno zařízení podle vynálezu, kde značí obr. 1 řez zařízením a obr. 2 půdorys horní komory.Zařízení na obr. 1 jsou v podstatě.dvě vakuové komory l, Ž, uspořádané vertikálne,Vsázka se ukladá na nosič vsázky 1, který je uložen na zvedacím zařízení 1. V komoře l je Zařízení á pro iontově čištění a...