Spôsob a zariadenie na elektrolytické povliekanie povrchu valca na kontinuálne liatie tenkých kovových pásov vrstvou kovu

Stiahnuť PDF súbor.

Zhrnutie / Anotácia

Je opísaný spôsob elektrolytického povliekania povrchu valca na kontinuálne liatie tenkých kovových pásov medzi dva valce alebo na jeden valec vrstvou kovu. Lejacia plocha valca je aspoň čiastočne ponorená do roztoku elektrolytu obsahujúceho soľ kovu, ktorý má byť nanášaný tak, že smeruje proti aspoň jednej anóde, pričom uvedená plocha je umiestnená ako katóda. Medzi lejacou plochou a elektrolytickým roztokom je vytvorený relatívny pohyb. Podstata spôsobu spočíva v tom, že medzi anódu alebo anódy a hrany lejacej plochy sú vložené izolačné masky, ktoré zabraňujú koncentrácii elektrických siločiar na uvedených hranách a v ich blízkosti. Zariadenie na elektrolytické povliekanie lejacej plochy (3) valca na kontinuálne liatie tenkého kovového pásu, ktoré zahrnuje nádrž (1) obsahujúcu elektrolyt (2) obsahujúci soľ kovu, ktorý má byť nanášaný, prostriedky (5, 6) na aspoň čiastočné ponorenie lejacej plochy (3) do tejto nádrže (1) a na vytvorenie relatívneho pohybu medzi lejacou plochou a elektrolytom, aspoň jednu anódu (4, 4') umiestnenú v nádrži (1) proti lejacej ploche (3) a prostriedky na vytvorenie katódového potenciálu na lejacej ploche. Podstata zariadenia spočíva v tom, že zahrnuje masky (7, 7') vyrobené z izolačného materiálu, ktoré sú vložené medzi hrany (12) lejacej plochy (3) a anódu alebo anódy (4, 4'). Tieto masky (7, 7') zabraňujú koncentrácii elektrických siločiar na hranách (12) lejacej plochy (3).

Text

Pozerať všetko

Vynález sa týka oblasti kontinuálneho liatia kovov. Predovšetkým sa však týka úpravy vonkajšieho povrchu valca alebo valcov, ktoré tvoria pohybujúcu sa stenu alebo steny formy na kontinuálne liatie tenkého pásu vyrábaného z kovu. ako je oceľ.Formy zariadení na dvojvalcové kontinuálne liatie oceľových pásov s hrúbkou niekoľkých milimetrov priamo z roztavenćho kovu zahŕňajú lejací priestor vymedzený valcovými plochami dvoch valcov, ktoré sa otáčajú v opačných smeroch okolo svojich osí, a ktoré sú udržiavane v horizontálnej polohe a ďalej dvoma bočnými stenami vyrobenými zo žiaruvzdomého materiálu, ktoré sú dotláčanć na čelá valcov. Tieto valce majú priemer, ktorý môže dosahovať 1500 mm a šírku, ktorá je pri súčasných experimentálnych zariadeniach 600 až 800 mm. Aby sa vyhovelo požiadavkám na produktivitu priemyselného zariadenia, bude šírka valcov výhľadovo dosahovať 1300 až 500 mm. Tieto valce sú obvykle tvorené oceľovým jadrom, ktoré je obklopene pripevneným medeným puzdrom alebo puzdrom zo zliatiny medi. Toto puzdro je chladené vodou. ktorá cirkuluje medzi jadrom a puzdrom alebo vnútri puzdra.Rovnako ako je tomu pri lejacích plochách foriem na bežné kontinuálne liatie blokov, ingotov alebo brám. býva povrch puzdra, ktorý prichádza do styku s roztaveným kovom, pokrytý vrstvou kovu. obvykle niklu, ktorej hrúbka sa všeobecne pohybuje v rozmedzí l až 2 mm. Táto vrstva niklu umožňuje nastavit koeficient prestupu tepla puzdra na optimálnu hodnotu (ktorá je menšia než keby kov prichádzal priamo do kontaktu s meďou) tak. že roztavený kov tuhne pri presných metalurgickýrch podmienkach. Príliš rýchle tuhnutie kovu by totiž spôsobilo povrchové deľckty finálneho výrobku. Toto nastavenie sa vykonáva zmenami hrúbky a štruktúry vrstvy niklu. Na druhej strane nikel tiež vytvára na mcdi ochrannú vrstvu. ktorá zabraňuje jej nadmernému tepelnému a mechanickému zaťažovaniu. Táto vrstva niklu sa počas používania valca opotrebováva a musí byť periodicky obnovovaná. Obnova sa vykonáva tak. že sa čiastočne alebo úplne odstráni zostávajúca vrstva a následne sa nanesie vrstva nová. Takáto obnova je obvykle lacnejšia než úplná výmena opotrebovaného medeného puzdra.Nanášanie niklu sa výhodne vykonáva elektrolyticky nasledujúcim spôsobom. Nové puzdro (puzdro. z ktorého bol nikel bud úplne, alebo čiastočne odstránený), ktoré má ako celok tvar dutćho valca, vyrobeného z medi alebo zo zliatiny mcdi, ako je zliatina med - (l ) chróm -t 0.l ) zirkónium, je uložené na upínací tŕň pomocou prostriedkov. ktorými môže byť ľahko prepravované z jedného pracovného miesta dielne na galvanické pokovovanie niklom a na odstraňovanie niklu na iné pracovné miesto. Po vykonaní rôznych prípravných spracovaní povrchu (leštenie. oLlmastnenie. morenie v kyseline atdľ), vykonávaných s cieľom zlepšit priľnavost niklu na med, je puzdro dopravené na miesto galvanického pokovovania niklom. Toto pracovne miesto je tvorené nádržou obsahujúcou galvanický niklový roztok, nad ktorú je možne umiestniť upínací tŕň v horizontálnej polohe a uviesť ho do rotácic okolo jeho osi. Spodná časť puzdra je potom ponorená clo nádrže a otáčanie zostavy upínacieho tŕňa a puzdra. príkladne rýchlosťou približne 10 otjmin., zaistí vykonanie spracovania celého puzdra. Počas galvanického nanášania niklu tvorí puzdrokatódu, anóda potom môže byt tvorená jedným alebo viacerými titánovými anódovýmí košmi ponorcnými do nádrže, ktoré sú uzavreté tenkou membránou smerujúcou k povrchu puzdra, a ktoré obsahujú niklové guľôčky, Ak je žiaduce pokryť tiež hlavnú časť koncov puzdra (ktoré sa pri liatí otierajú o bočné steny zo žiaruvzdomeho materiálu a sú preto náchylné na opotrebovanie) niklom. sú ďalšie anódové koše usporiadané tak, aby smerovali k týmto koncom puzdra. Použite môžu byt tiež iné typy anód (rozpustné alebo nerozpustne).Ako variant je možné vytvoriť také usporiadanie. kde puzdro zostáva ncpohyblive a elektrolyt sa potom pohybuje okolo neho. Dôležité všakje vytvorenie relativneho pohybu medzi puzdrom a elektrolytom, ktorý zaistí plynulé obnovenie ich kontaktnej plochy.Počas procesu líatiajc níklový povlak vystavený veľmi silnemu namáhaniu. a to tak mechanickému, ako aj tepelnému. Často už po niekoľkých lejacích cykloch je V niklovom povlaku v blízkosti okrajov valcov pozorovaný vznik trhlín. Tieto trhlíny sa vyskytujú v oblastiach niekoľkých centimetrov šírky od hrán puzdra. Trhlíny môžu spôsobovat vznik defektov na povrchu liateho výrobku, lebo spôsobujú nerovnomerne chladenie tohto liateho výrobku. Okrem toho trhlíny vytvárajú slabe miesta, od ktorých môže začínať veľmi rýchla degradácia celého niklového povlaku. Dochádzať môže tiež k postupu trhlín až pod niklový povlak. ktorý by spôsobil poškodenie celého puzdra. Tieto trhliny teda vyžadujú okamžité a predčasne ukončenie použivania valca a úplné obnovenie nikloveho povlaku na puzdre. Nakoľko je táto činnost časovo náročná (niekoľko dní), bude priemyselne využiteľný spôsob dvojvalcoveho kontinuálneho liatia ocele nutne vyžadovať, aby bolo na použitie pripravené množstvo púzdier. čím by sa zaistil pravidelný chod lejacieho zariadenia. Nakoľko je puzdro veľmi nákladnou súčasťou. a to v dôsledku použitého materiálu ajého ťažkej obrobiteľnosti, dochádzalo by ku značnému zvýšeniu prevádzkových nákladov lejacieho zariadenia.Cieľom tohto vynálezu je teda zdokonaliť chovanie kovového povlaku puzdra so zreteľom najeho odolnost proti termomechanickému namáhaniu tak. aby bol čo možno najviac spomalený vznik. alebo aby bolo úplnc zabránene vzniku trhlín v okrajových oblastiach puzdra a predĺžil sa tak priemerný čas používania puzdra medzi dvoma obnovami jeho povlaku.Vynálezom bol vytvorený spôsob elektrolytického povliekania lejacej plochy valca na dvojvalcové alebo jednovalcovć kontinuálne liatie tenkých kovových pásov vrstvou kovu, pri ktorom je lejacia plocha aspoň čiastočne ponorená do elektrolytického roztoku obsahujúceho sol kovu, ktorý má byť nanášaný tak, že smeruje proti aspoň jednej anóde. Plochaje umiestnená ako katóda a medzi uvcdenou lejacou plochou a uvedeným elektrolytickým roztokom jc vytvorený relatívny pohyb. Podstata tohto spôsobu spočíva v tom, že medzi uvedenú anódu alebo anódy a hrany uvedenej lejacej plochy sú vložené izolačné masky. ktore zabraňujú koncentrácii elektríckých síločiar na uvedených hranách lejacej plochy a v ich blízkosti.Vynálezom je ďalej vytvorené zariadenie na elektrolytické povliekanie lejacej plochy valca na dvojvalcove alebo jcdnovalcové kontinuálne liatie tenkých kovových pásov vrstvou kovu. Zariadenie zahmuje nádrž, ktorá obsahuje elektrolyt obsahujúci soľ kovu, ktorý má byt nanášaný.prostriedky na aspoň čiastočné ponorenie uvedenej lejacej plochy do uvedenej nádrže a na vyvolanie relativneho pohybu medzi uvedenou lejacou plochou a uvedeným elektrolytom, aspoň jednu anódu, usporiadanú v nádrži tak, že smeruje k uvedenej lejacej ploche, a prostriedky na vytvorenie katódovćho potenciálu na uvedenej lejacej ploche. Podstata tohto zariadenia spočíva v tom, že ďalej zahmuje masky vyrobené z izolačného materiálu, ktoré sú vložené medzi hrany uvedenej lejacej plochy a uvedenú anódu alebo anódy. Tieto masky zabraňujú koncentrácii elektrických siločiar na uvedených hranách lejacej plochy.Výhodné ďalej je, ked uvedene masky majú všeobecne tvar kruhového oblúka, ktorého stred krivosti je rovnaký ako stred krivosti hrany lejacej plochy oproti ktorej ležia a keď majú dve rovnobežne strany, každú umiestnenú v predĺžení uvedenej hrany v rovnakej vzdialenosti od tejto hrany a spojene rohovým výrezom, ktorého strany sú vzájomne kolmé.Ako bude z ďalšieho zrejmé, vynález spočíva vo vykonávaní galvanickćho nanášania kovového povlaku V prítomnosti izolačných masiek usporiadaných v blízkosti okrajov puzdra. Tieto izolačné masky, ktorých výhodne vyhotovenie bude opisanć, sú vytvorené na účely dosiahnutia rovnomernej distribúcie elektrických siločiar v okrajových oblastiach puzdra. Pri tomto usporiadaní má potom povlak v týchto oblastiach rovnomernú hrúbku, ktorá sa zhoduje s požadovanou nominálnou hrúbkou.Vynálezcovia zistili, že existuje vzťah medzi rýchlosťou, ktorou vznikajú trhliny v niklovom povlaku v okrajových častiach puzdra a rovnomemosťou hrúbky tohto povlaku v týchto okrajových oblastiach, predovšetkým na čiare hrany puzdra. Ak nebolo použite špeciálne skonštruované zariadenie brániace tomuto javu, bola v tesnej blízkosti hrán puzdra a na čiare samotných hrán zistená nadmerná hrúbka niklovćho povlaku. Napríklad, ak v hlavnej časti povrchu puzdra bola nominálna hrúbka povlaku 2 mm, bola na hrane puzdra zistená hrúbka niekedy aj väčšia než 7 mm. Táto nadmerná hrúbka niklovej vrstvy vzniká v dôsledku koncentrácie elektrických siločiar v bezprostrednej blízkosti hrán puzdra. Aj ked k týmto koncentráciám dochádza iba vo veľmi obmedzenej časti puzdra, sú dostatočnć na to, aby spôsobovali rýchly vznik uvedených trhlín. Je to tým, že umožňujú vznik vodíka, ktorý môže vytvárať plynné vtrúseniny vo vytvorenej vrstve niklu. Tieto koncentrácie elektrických siločiar okrem toho vytvárajú kryštalickú štruktúru niklového povlaku. Na hrane a na ostatných častiach puzdra teda nie je rovnaká tvrdosť a štruktúra nanesenej vrstvy.Jedným prostriedkom na zníženie tejto nadmemcj hrúbky povlaku je vybavenie hrany puzdra rádiusom, majúcim niekoľko milimetrov, miesto toho, aby bola vytvorená ostrá hrana. V skutočnosti však tento rádius nemôže byť väčší než l až 2 mm, lebo inak by dochádzalo k nadmernemu nebezpečenstvu intiltrácie roztavenćho kovu medzi konce valcov a bočné steny lejacieho priestoru vyrobene zo žiaruvzdorného materiálu.Ďalším známym prostriedkom je vychyľovanie elektrických siločiar pomocou prostriedkov a zariadeni nazývaných odberače prúdu. Sú nimi kovové vodiče, ktorými prechádza elektrický prúd, a ktoré sú usporiadané rovnobežne s hranami puzdra a v ich blízkosti. Tieto zariadenia vychyľujú smerom k sebe niektoré elektrické siločiary, ktore by sa v prípade ich neprítomnosti koncentrovali na hranách puzdra a v ich blízkosti. Toto riešenie používané samostatne však neprináša uspokojive výsledky. Okrem toho polohy a prevádzkové parametre týchto odberačov prúdu musia byť starostlivo stanovené, lebo inak, okremtoho, že v mieste hrany puzdra zostane nadmerne hrubá vrstva, môže niekedy dôjsť k tomu, že naopak vrstva niklu v týchto miestach bude tenšia než je normálna hrúbka, čo je známkou toho, že elektricke siločiary boli z príslušných oblastí nadmerne vychýlenć. Ako elektrolytické pokovovanie pokračuje, dochádza okrem toho k tomu, že sa na týchto odberačoch prúdu ukladá nikel, a to v nezanedbateľnom množstve. Je teda nevyhnutné získať tento nikel späť. Elektrický prúd spotrebovaný na jeho uloženie potom predstavuje čistú stratu. Ale okrem toho všetkého, ukladanie niklu na odberačoch prúdu spôsobuje, že dochádza k zmenám rozmerov týchto zariadení, a to navyše veľmi nepravidelným spôsobom. Učinnosť týchto odberačov prúdu sa preto počas procesu vytvárania povlaku veľmi silne mení, a je teda veľmi ťažké ich ovládať. V skutočnosti, pri požadovanej hrúbke povlaku 2 mm, bola v najlepšom prípade zistená na hranách puzdra hrúbka vrstvy 2,5 mm, ale táje ešte stále príliš veľká na úspešné vyriešenie uvedeného problému vzniku trhlín. Pri samostatnom použití týchto odberačov prúdu teda nie je možné pri vytváraní povlaku na valcoch na kontinuálne liatie kovov dosiahnuť na tento účel uspokojivú rovnomemosť niklovej vrstvy.Vynálezcovia zistili, že najvhodnejšim spôsobom, ako dosiahnuť veľmi rovnomerne ukladanie niklu na hranách puzdra a v ich bezprostrednej blizkosti, je umiestniť v malej vzdialenosti od hrán puzdra izolačné masky. Ďalej bolo zistené, že za týchto podmienok môže byť predčasný vznik trhlín v povlaku v okrajových oblastiach puzdra eliminovany.Prehľad obrázkov na výkresochVynález bude podrobnejšie objasnený v nasledujúcom opise, ktorý odkazuje na pripojené výkresy, kde obr. 1 zobrazuje schematicky v reze miestom l-l zariadenie na povliekanie puzdra valca na dvojvalcové kontinuálne liatie, vytvorené na uskutočnenie spôsobu podľa tohto vynálezu obr. 2 zobrazuje v reze miestom II-Il rovnake zariadenie a znázorňuje výhodné usporiadanie izolačných masiek podľa tohto vynálezu.Zariadenie podľa tohto vynálezu je zobrazené na obr. l. Rovina rezu leží v nádrži 1, obsahujúcej elektrolyt 2, v tomto prípade galvanický roztok, ktorého hlavnou zložkou je soľ niklu, ale pred lejacou plochou, tvorenou medeným puzdrom 3 umiestneným ako katóda a pred dvoma anódami 4, 4, usporiadanými na dne nádrže 1. Puzdro 3, ktoré má valcovitý vonkajší tvar a vonkajší priemer 1500 mm, je nasadené na upínacom tŕni 5, ktorého hriadeľ 6 sa počas galvanickćho pokovovania otáča pomocou prostriedkov, ktoré nie sú na výkrese zobrazené. Aspoň spodná časť puzdra 3 je ponorená v roztoku elektrolytu. V zobrazenom príkladnom vyhotovení sú anódami 4, 4 rozpustne anódy tvorené zakrivenými titánovými anódovými košmi naplnenými niklovými granulami. Ale toto usporiadanie predstavuje iba jedno prikladne uskutočnenie. Použiť by bolo možné iný počet anód a aj inú konfiguráciu (príkladne je možné použiť nerozpustne anódy). Anódy 4, 4 majú za rovinou rezu šírku väčšiu, než je šírka puzdra 3. Čelne proti okrajom puzdra 3 sú usporiadané masky 7, 7 (iba masku 7 je na obr. l vidieť), vyrobené z izolačného materiálu, ako je polymér. Ich funkciou je zabraňovať tomu, aby elektrickesiločiary, vychádzajúce z anód 4, 4, dosiahli okrajové oblasti puzdra a hrán puzdra 3 priamo a zabraňovat tak vzniku nadmerne silného niklovćho povlaku v týchto miestach. Poloha týchto izolačných masiek 7, 7 môže byť vzhľadom na puzdro nastavovaná polohovaeími prostriedkami, znázomenými na výkrese symbolicky pohyblivými tyčami 8.Presne usporiadanie týchto izolačných masiek 7, 7 je zobrazené na obr. 2. V tu zobrazenom príklade majú tvar podlhovastých telies s približne štvorcovým alebo obdĺžnikovým prierezom a majú všeobecne tvar kruhového oblúku, ktorého stred krivosti je rovnaký ako stred krivosti hrán puzdra 3, proti ktorému ležia. Horná hrana izolačných masiek 7, 7, ležiaca pri činnosti zariadenia najbližšie k hrane puzdra 3, je vybavená výrezom 9, 9 v tvare rohu, ktoreho dve strany 10, 10 sú na sebe kolmé a majú približne rovnakú dĺžku, príkladne okolo 5 mm. Izolačné masky 7, 7 sú pomocou tyčí 8 usporiadané takým spôsobom, že vonkajšie hrany 11, 11 výrezov 9, 9 sú umiestnene približne v rovnakej vzdialenosti d od hrany 12 puzdra 3, proti ktorej smerujú. Vzdialenosť d je v počiatočnej fáze, kedy je žiaducc vytvoriť vrstvu niklu s hrúbkou 2 až 3 mm. okolo 5 mm. Ďalšie strany l 3, l 3 každej izolačnej masky 7, 7. ktore sú kolmć na puzdro 3, musia pri tomto prikladnom uskutočnení vynálezu mať minimálnu dĺžku 50 mm. Je to práve toto usporiadanie, kedy masky 7, 7 môžu vychyľovat elektricke siločiary natoľko dostatočne, aby sa optimalizovala rovnomernosť ich rozdelenia v oblastiach hrán puzdra 3.Voliteľne možno izolačné masky 7, 7 usporiadať tiež tak, že sa môžu postupne, so zväčšuiúcou sa hrúbkou nikIového povlaku, pohybovať smerom od puzdra 3. Tento pohyb možno uskutočniť bud v postupnýeh krokoch. alebo kontinuálne. Je tak možné zaistiť, aby medzi maskou a povlakom vždy zostáva dostatočný priestor. a umožnilo sa zväčšovanie nanášanej vrstvy niklu.V závislosti od presnosti usporiadania anód 4, 4 a izolačných masiek 7, 7 bude povliekanie koncov puzdra l prebiehať rovnomerne vo väčšej alebo menšej časti ich povrchu. Na zväčšenie tejto povliekanej časti je možné, rovnako ako pri známom stave techniky, do nádrže 1 vložiť vertikálne anódy ZI, 21, 2, ako sú anódové koše naplnené niklovými granulami podobne anódovým košom 4, 4,ktoré budú smerovať ku koncom puzdra 3.Je zrejmé, že sa izolačné masky môžu svojou konštrukciou od masiek 7, 7. ktoré boli práve opísané ako príkladné. líšiť, ale vždy musia byť schopne zaistiť dosiahnutie požadovanej rovnomernosti hrúbky kovového povlaku. Predovšetkým, miesto podlhovastých telies so štvoreovým alebo iným prierezom, môžu byť masky tvorené doskou alebo zostavou dosiek, pričom plocha tejto dosky alebo zostavy dosiek, ktorá je natočené proti puzdru, má výhodne rovnaké usporiadame, ako podlhovaste telesá pri opisanom príkladnom uskutočnení. Inými slovami, táto plocha musi výhodne zahrnovať dve rovnobežne hrany, každú umiestnenú v predĺžení hrany puzdra v rovnakých vzdialenostiach d od tejto hrany puzdra, spojené rohovým výrezom. ktorého strany sú vzájomne kolmé.Vynález nevylučuje, na podporu a ďalšie doladenie činnosti izolačných masiek, možnosť vytvorenia stálych alebo dočasne používaných odberačov prúdu, ktore môžu tvorit súčasť masiek, alebo môžu byt od nich nezávislé.Je samozrejme, že vynález môže byt použitý na pokovovanie puzdra inými kovmi ako niklom. Tiež valce takto pokované môžu byť použite nielen v zariadení na dvojvalcove kontinuálne liatie tenkých kovových pásov (vyrábaných z ocele alebo iného materiálu), ale tiež v zariadeni na kontinuálne liatie tenkých pásov, pri ktorom do kontaktu s povrchom kovového kúpeľa prichádza jediný Valec (jedno valcove liatie). Okrem toho vynález môže byt použitý aj v prípade povliekania lejaeej plochy nedelenčho valca, pri ktorom puzdro a jadro tvorí jeden a ten istý diel. Ľahké je tiež preniesť vynález na pripad, kedy by puzdro alebo nedelený valec bol v galvanickom kúpeli úplne ponorený. Nakoniec, ako už bolo uvedené, je možné relativny pohyb medzi puzdrom a elektrolytom dosiahnuť tiež tak, že puzdro zostane nepohyblivé a elektrolyt sa bude pohybovať okolo neho. Toto usporiadanie sa dá využiť predovšetkým pri prípadoch, keďje puzdro úplne ponorené v elektrolyte. Pohyby elektrolytu sú potom vytvárané dýzami vhodne umicstnenými tak, že elektrolyt cirkuluje okolo puzdra medzi anódou alebo anódami.l. Spôsob na eleklrolytické povliekanie lejaeej plochy valca na dvojvaleove alebo jednovaleové kontinuálne liatie tenkých kovových pásov vrstvou kovu. pri ktorom je uvedená leiacia plocha aspoň čiastočne ponorená do elektrolytiekého roztoku obsahujúceho sol kovu, ktorý má byt nanášaný tak, že smeruje proti aspoň jednej anóde, pričom uvedená plocha je umiestnená ako katóda a medzi uvedenou lejacou plochou a uvedeným elektrolytickým roztokom je vytvorený relatívny pohyb, v y z n a č u j ú c i s a t ý m , že medzi uvedenú anódu alebo anódy, a hrany uvedenej lejacej plochy sú vložené izolačné masky, ktore zabraňujú koncentrácii elektrických siločiar na uvedených hranách a v ich blízkosti.2. Spôsob podľa nároku l, v y z n a č uj ú e i s a t y m , že uvedene masky sú s rastúcou hrúbkou kovovej vrstvy postupne vzďaľovanć od uvedených hrán.3. Zariadenie na elektrolyticke povliekanie lejaeej plochy (3) valca vrstvou kovu, zahrnujúce nádrž (l) s elektrolytom (2). obsahujúcim sol kovu, ktorý má byt nanášaný. prostriedky (5, 6) na aspoň čiastočne ponorenie lejaeej plochy (3) do nádrže (l) a na vyvolanie relatívneho pohybu medzi lejacou plochou (3) a elektrolytom (2), aspoň jednu anódu (4, 4) usporiadanú v nádrži (l) tak, že smeruje k le jaeej ploche (3). prostriedky na vytvorenie katódového po tenciálu na lejaeej ploche (3), a masky (7, 7) z izolačnćho materiálu, ktoré sú vložené medzi hrany (12) lejaeej plochy(3) a anódu alebo anódy (4. 4). V y z n a č u j ú c e s a tý m , že masky (7. 7) majú všeobecne tvar kruhoveho oblúka, ktorého stred krivosti je rovnaký ako stred krivosti hrany (12) lejaeej plochy (3) proti ktorej ležia, a majú dve rovnobežne strany (13. l 3). každú umiestnenú v predĺžení hrany (12) v rovnakej vzdialenosti (d) od tejto hrany (12) a spojene rohovým výrezom (9. 9), ktoreho strany (10, 10) sú vzájomne kolme na získanie povlaku na povrchu dvojice valeov alebo samostatného valca na kontinualne liatie tenkých kovových pásov. 4. Zariadenie podľa nároku 3. v y z n a č uj ú c e s a t ý m , že uvedene masky (7, 7) sú tvorené podlhovastými telesami. 5. Zariadenie podľa nároku 3, v y z n a č uj ú c e s a t ý m , že uvedene masky (7, 7) sú tvorené doskami alebo zostavami dosiek. 6. Zariadenie podľa jedného z nárokov 3 až 5. v y z n a č uj ú c e s a tý m ,že zahrnuje prostriedky (8) na postupné odsúvanic uvedených masiek (7. 7) od uvedených hrán (12) v závislosti od rastu hrúbky nanášanej vrstvy. 7. Zariadenie podľa jedného z nárokov 3 až 6, v y z n a č uj ú c e s a tý m , že ďalej zahrnuje anódy(21, 21), ktoré sú usporiadané tak, že smerujú proti koncom uvedenej lejacej plochy (3).8. Zariadenie podľa jedného z nárokov 3 až 7, v y z n a č u j ú c e s a tý m ,že ďalej zahrnuje odberače prúdu.9. Zariadenie podľa nároku 8, v y z n a č u j ú c e s a t ý m , že uvedené odberače prúdu sú včlenenć do uvedených masiek (7, 7).10. Zariadenie podľa jedného z nárokov 3 až 9, v y z n a č uj ú c e s a tý m , že uvedenými prostriedkami na vytvorenie relatívneho pohybu medzi uvedenou lejacou plochou (3) a uvedeným elektrolytom (2) sú prostriedky na otáčanie uvedenej lejacej plochy (3).Il. Zariadenie podľa jedného z nárokov 3 až 9, v y z n a č u j ú c e s a t ý m , že uvedenými prostried~ kami na vytvorenie relatívneho pohybu medzi uvedenou lejaeou plochou (3) a uvedeným elektrolytom (2) sú prostriedky na cirkulácíu uvedeného elektrolytu (2) okolo uvedenej lejacej plochy (3).

MPK / Značky

MPK: C25D 1/04

Značky: vrstvou, elektrolytické, liatie, tenkých, pásov, kontinuálně, povrchu, spôsob, zariadenie, kovových, povliekanie, valca

Odkaz

<a href="http://skpatents.com/6-283880-sposob-a-zariadenie-na-elektrolyticke-povliekanie-povrchu-valca-na-kontinualne-liatie-tenkych-kovovych-pasov-vrstvou-kovu.html" rel="bookmark" title="Databáza patentov Slovenska">Spôsob a zariadenie na elektrolytické povliekanie povrchu valca na kontinuálne liatie tenkých kovových pásov vrstvou kovu</a>

Podobne patenty