Spôsob výroby viacvrstvového telesa a viacvrstvé teleso

Číslo patentu: E 4657

Dátum: 09.02.2006

Autori: Tompkin Wayne Robert, Schilling Andreas, Staub René

Je ešte 22 strany.

Pozerať všetko strany alebo stiahnuť PDF súbor.

Text

Pozerať všetko

SPÓSOB VÝROBY vIAcvRsmrÉHo TELESA A VIACVRSTVÉ TELESO0001 Vynález se týka spôsobu výroby viacvrstvého telesa s parciálne vytvarovanou prvou vrstvou a viacvrstvého telesa s replikačnej vrstvou a prvou vrstvou, parciálne usporiadanú0002 Také konštrukčné prvky sú vhodné ako optické konštrukčné prvky alebo tiež ako optické sústavy V obore telekomunikácie.taviteľnej fólie s ochranným prvkom v podobe hologramu. Pri tom sa fólia z plastickej hmoty po vyražení difrakčnej reliéfnej štruktúry celoplošne metalizuje a následne V presnomsútisku s vyrazenou difrakčnou reliéfnou štruktúrou zónovedemetalizuje. 0004 Demetalizácia V presnou sútisku je cenove nákladná a dosiahnuteľné rozlíšenie je ohraničené justovacou0005 EP O 537 439 B 2 popisuje spôsob výroby bezpečnostného prvku s filigránovými vzormi. Vzory sú vytvorené difrakčnými štruktúrami, pokrytými kovovou vrstvou a obklopenými transparentnými zónami, V ktorých je kovová vrstva odstránená. V tomto prípade sa obrys filigránského vzoru vloží ako priehlbeň V nosnom materiále, pokrytom kovovou vrstvou, pritomsa súčasne opatrí dno prehĺbení difrakčnými Štruktúramia následne sa priehlbeň naplní ochranným lakom. Prebytočnýochranný lak sa odstráni stieracím nožom.0006 Po nanesení ochranného laku sa kovová vrstva V nechránených transparentných zónach odstráni vyleptaním. Priehlbiny činia asi 1 m až 5 m, kým difrakčné štruktúry môžu mať výškový rozdiel viac než 1 m. U jemnejších štruktúr nefunguje tento spôsob, ktorý vyžaduje pri opakovaných krokoch kalibráciu pre presný sútisk. Okrem toho sú plošné súvislé kovovej zóny obťažne realizovateľné, pretože pre stieranieochranného laku chýbajú rozpierky.0007 EP-A-758587 uvádza tiež výrobu viacvrstvého telesa.0008 Úkolom predkladaného vynálezu je poskytnúť viacvrstvé teleso a spôsob výroby viacvrstvého telesa, pri ktorom je do registra možno vložiť s veľkou presnosťou a cenove výhodnúvrstvu vykazujúcu zóny, V ktorých sa vrstva nevyskytuje.0009 Podľa vynálezu sa rieši tento úkol spôsobonl úpravy viacvrstvého telesa s čiastočne vytvorenou prvou vrstvou, pri ktorej sa V prvej zóne replikačnej vrstvy viacvrstvého telesa vymodeluje difrakčná prvá reliéfna štruktúra s pomerom hĺbky k šírke jednotlivých štruktúrnych prvkov 0,3, a prvá vrstva na replikačnej vrstve V prvej zóne a v druhej zóne, v ktorej nie je prvá reliéfna štruktúra v replikačnej vrstve vytvarovaná, sa nanesie s konštantnou povrchovou hustotou vzhľadom k jednej rovine, definovanej replikačnej vrstvou,a prvá vrstva, definovaná prvou reliéfnou štruktúrou, sa čiastočne odstráni, takže sa odstráni prvá vrstva v prvej zóne, nie však v druhej zóne, alebo v druhej zóne, nie však0010 Ďalej sa úloha rieši viacvrstvým telesom s replikačnej vrstvou a aspoň jednou na replikačnej vrstve parciálne usporiadanú prvou vrstvou, pričom V prvej zóne replikačnej vrstvy je vytvarovaná difrakčná prvá reliéfna štruktúra s pomerom hĺbky k šírke jednotlivých štruktúrnych prvkov 0,3, a v druhej zóne replikačnej vrstvy nie je prvá reliéfna Štruktúra vytvarovaná V replikačnej vrstve, a parciálne usporiadanie prvej vrstvy prvou reliéfnou štruktúrou je definované tak, že je odstránená prvá vrstva V prvej zóne, nie0011 Princíp vynálezu je založený na zistení, že su špeciálnou difrakčnou reliéfnou štruktúrou v prvej zóne ovplyvnené fyzikálne vlastnosti tejto prvej vrstvy, nanesené na replikačnú vrstvu v tejto zóne, ako sú vlastnosti priestupu, najmä transparentnosť, alebo účinná hrúbka prvej vrstvy, takže sa fyzikálne vlastnosti prvej vrstvy v prvej a druhej zóne líšia. Prvá vrstva sa teda použije ako forma maskovacej vrstvy pre čiastočné odstránenie samotnej prvej vrstvy alebo pre čiastočné odstránenie ďalších vrstiev. Tým sa V porovnaní so známymi postupmi nanesených maskovacích vrstiev získa výhoda V tom, že je táto maskovacia vrstva nastavená s presným sútiskom bez dodatočného nákladu na kalibráciu. Prvá vrstva je integrálnou súčasťou štruktúry, vytvarovanej v replikačnej vrstve. Nedochádza k bočnému posunu medzi prvou reliéfnou štruktúrou a zónami prvej vrstvy s rovnakými fyzikálnymi vlastnosťami. Usporiadanie zón prvej vrstvy s rovnakými fyzikálnymi vlastnosťami je presné v registre s prvou reliéfnou štruktúrou. Preto majú vplyv na tolerancie polohy prvej vrstvy iba tolerancie tejto reliéfnej štruktúry. K dodatočným toleranciám nedochádza. U prvej vrstvy sa jedná o vrstvu, ktorá plní výhodne dvojakú funkciu. Poskytuje 1)funkciu nmskovacej vrstvy presného sútisku, napríklad vysokopresnej expozičnej masky pre výrobný proces, 2) predstavuje(na konci výrobneho procesu) vysoko presne umiestnenú funkčnú vrstvu, napríklad OVD-vrstvu, alebo vodivú dráhu, alebo funkčnú vrstvu elektrického konštrukčného prvku, napríkladorganického polovodičového konštrukćného prvku.0012 Ďalej je možné pomocou vynálezu vytvoriť štrukturované vrstvy s veľkým rozlíšením. Dosiahnuteľné rozlíšenie je asi o faktor 100 lepšie, než rozlíšenia dosiahnuteľné pomocou známeho demetalizačného postupu. Vzhľadom k tomu, že šírka štruktúrnych elementov prvej reliéfnejj štruktúry môže byť V rozsahu vlnovej dĺžky viditeľného svetla (asi 380 až 780 nm), poprípade ale tiež menšie, môžu byť vytvorené metalizované vzorové zóny s veľmi jemnými obrysmi. Tým sa v porovnaní s dosiaľ používanými demetalizačnými postupmi získajú ďalšie výhody, a je s úspechom možné vytvoriť bezpečnostné« prvky s väčšou ochranou proti kopírovaniu0013 Je Inožné vytvoriť čiary a body s vyššinl rozlíšením,napríklad s šírkou, respektíve priemerom menším než 5 m,najmä do asi 200 nm. Výhodne sa vytvorí rozlíšenie v rozsahu od asi 5 m do 5 5 m, najmä v rozsahu asi 1 m. Naproti tomu sú V postupoch, ktoré predpokladajú kalibráciu v registre,realizovateľnej šírky čiar menšiu než 10 m iba s veľmi0014 U prvej vrstvy sa môže jednať o veľmi tenkú vrstvuV rade niekoľkých nm. Prvá vrstva, nanesená s rovnomernou povrchovou hustotou, vztiahnutou na replikačnú vrstvudefinovanú rovinu, je v zónach s vysokým pomerom hĺbok k šírkam vytvorená značne tenšia, než v zónach s nízkým

MPK / Značky

MPK: B42D 15/10

Značky: spôsob, výroby, viacvrstvé, viacvrstvového, těleso, tělesa

Odkaz

<a href="http://skpatents.com/58-e4657-sposob-vyroby-viacvrstvoveho-telesa-a-viacvrstve-teleso.html" rel="bookmark" title="Databáza patentov Slovenska">Spôsob výroby viacvrstvového telesa a viacvrstvé teleso</a>

Podobne patenty