Způsob měření rychlosti nárůstu tloušťky nanášených vrstev

Číslo patentu: 236352

Dátum: 01.11.1987

Autori: Landar Josef, Kříž Josef, Benc Ivo, Kopecký Josef, Urbanec Jan

Stiahnuť PDF súbor.

Zhrnutie / Anotácia

Řesení se týká způsobu měření rychlosti nárůstu tloušťky nanášených vrstev odpařovaného materiálu na substrát pomocí krystalového čidla. Účelem řešeni je přesnější a jednodušší způsob měření rychlosti nárůstu tloušťky nanášené vrstvy a možnost současného měření celkové tloušťky nanesené vrstvy při použití jediného krystalového čidla. Uvedeného účelu se dosáhne tím, že se měří ve dvou následných časových intervalech změna frekvence čidla, přičemž v prvním časovém intervalu se počítá frekvence vpřed, čímž se impulsy přičítají a v druhém časovém intervalu se jeho frekvence odečítají. Vzniklý rozdíl, zachycený na displeji, je úměrný a odpovídá rychlosti nárůstu tloušťky. Jiný údaj na displeji udává současně celkovou tloušťku napařené vrstvy. Řešení je možno využít zvláště v elektrotechnice a v oborech využívajících optické tenké vrstvy.

Text

Pozerať všetko

(75) BENO Ivo RNDraCSc.,° Wám KOPECKY JOSE ing.,KŘIŽ JOSEIF,LADNAR JOSEF, URBANEC JAN RNDr.CSc, PRAHAG 4) Způsob měření rychlosti nárůstu tloušřky nanášených vrstevŘešení se týká způsobu měření rychlosti nárůstu tloušřky nanášených vrstev odpařovaného materiálu na substrát pomoci krystalového čidla.Účelem řešení je přesnější a jednodušši způsob měření rychlosti nárůstu tloušťky nanášené vrstvy a možnost současného měření celkové tloušřky nanesené vrstvypři použití jediného krystalového čidla. Uvedenćho účelu se dosáhne tím, že se měři ve dvou následných časových intervaloch změna frekvence čidla, přičemž v prvním časovém intervalu se počitá frekvence vpřed, čímž se impulsy přičitaji a V druhém časovém intervalu se jeho frekven~ ce odečitaji. Vzniklý rozdíl, zachycenýna dieple 1, je úměrný a odpovídá rychlosti nár stu tloušřky. Jiný údaj na displeji udává současně celkovou tloušřku napařené vrstvy.Řešení je možno využít zvláště v elektro~ tecbnice a v oborecb využívajícicb optické tenké vrstvy.Vynález se týká způsobu měření rychlostí nárůstu tlouštky nanáěenýoh vrstev odpařovaného materiálu na substrát pomocí krystalového čidla na nějž se současně odpařovaný materiál nanáší.Potřeba měření rychlosti nárůstu tlouěřky nanášených vrstev vzniká hlavně při vakuovém napařování nebo naprašování tenkých vrstev materiálu na podložku. Podobné jako měření eamotné tlouětky nanášené vrstvy, tak i při měření rychlosti nárůstu tlouštky nanášené vrstvy se v poslední době provádí vesměs pomocí kmitajícíoh piezoelektrických krystalů. Využívá se závislosti frekvence a časové změny frekvence kmitajícího píezoelektriokého krystelu na změně jeho hmotnosti při nárůstu nanáěených vrstev.Jeden ze dvou způsobů měření rychlostí nárůstu tlouštky nanášených vrstev jehož se v současné době používá je ana 1 o~ gový způsob měření, kdy se používá pro údaj okamžitého počtu kmitů integrátoru. Derivace údaje integrátoru se provádí na vhodné voleném RC-členu.Při druhém způsobu měření jehož se dnes používá, to je při digitálním měření, se údaj a frekvence ukládá do mezipaměti, přičemž v logických obvodech se dve následné digitální údaje odečítají.Nevýhodou prvého způsobu měření je značná nepřesnost a nutnost přizpůsobení RC-členu. Nevýhodou druhého způsobu měření je složitějěí elektronika a také to, že zpravidla nelze současně měřit tlouštku i rychlost nárůstu nanášených vrstev.Výše uvedené nevýhody jsou odstraněny způsobem měření podle vynálezu jehož podstatou je, že ve dvou následných časových intervalech se měří změna frekvence čidla, přičemž V prvním časovém intervalu se počítá frekvence vpřed, čímž se impulsy přičítají a v druhém časovém intervalu se impulsy jeho frekvence odečítají. Vzniklý rozdíl je úměrný rychlosti nárůstu tlouštky. Měření se provádí ve vhodně zvolených časových íntervalech.Výhodou způsobu měření nárůstu tlouštky podle vynálezu je především větší přesnost měření, a to, že se dá vyřeěit s menším počtem obvodů, což zvyšuje spolehlivost. Způsob měření podle vynálezu je navíc výhodný též tím, že k měření rychlosti nárůstu tlouštky nanášených vrstev lze použít téhož krystalového ěidla, kterého se používá k měření celkové tlouštky nanesené vrstvy a takto lze obě měření, jak tlouštky,tak nárůstu tlouštky provádět současně.Jako příklad lze uvést měření rychlostí nárůstu tlouštky nanášených vrstev na substrát, pomocí křemenného krystalového čidla, při vakuovém napařování materiálů, například kovů, při němž se použije k měření frekvence synchronního vratného čí- tače, tvořeného íntegrovanými obvody MH 74192. Využíva se přitom vždy dvou po sobě následujících časových intervalů mezi hodinovými pulsy o délce 50 ms, přičemž V případě rostoucí frekvence se během prvního časového intervalu měřená vstupní frekvence přivádí na vstup vzad a během druhého časového intervalu na vstup vpřed, integrovaného obvodu M 74192. V případě klesající měřené vstupní frekvence se pňäínačem změní pořadí vstupů. Po druhém časovém intervalu následuje puls pro přepis do displejové jednotky a vynulování čítače. Rychlost nárůstu tlouštky nanášených vrstev udává údaj na displeji.Vynálezu lze s výhodou použít zvláště při vakuovém napařování nebo naprašování materiálů, jestliže kromě stanovení celkové tlouštky-nanesené vrstvy je nutno sledovat též rychlost jejího nárůstu.PŘEDMĚT VYNÄLEZU 236 352 Způsob měření rychlosti nárůstu tloušřky nanášených vrstev odpařovaného materiálu na substrát pomocí krystalového čídla na nějž se současně odpařovaný materiál nanáší, vyznačený tim,že ve dvou následných časových intervalech se měří změna frekvence čídla, přičemž v prvním časovém intervalu se počítá frekvence vpřed, čímž se impulsy přičítají a v druhém časovém. intervalu se ímpulsy ,jeho frekvence odečítaji.

MPK / Značky

MPK: G01B 7/06

Značky: vrstev, nárůstu, nanášených, tloušťky, rychlostí, měření, způsob

Odkaz

<a href="http://skpatents.com/4-236352-zpusob-mereni-rychlosti-narustu-tloustky-nanasenych-vrstev.html" rel="bookmark" title="Databáza patentov Slovenska">Způsob měření rychlosti nárůstu tloušťky nanášených vrstev</a>

Podobne patenty