Lázeň pro galvanické zlacení elektronických součástí

Stiahnuť PDF súbor.

Text

Pozerať všetko

(54) Lázeň pro galvanické zlucení elektronických součástíLázeň gro galvanické zlacení elektronických soucástl, zvláště tranzistorových natic, selektivně. Elektrolyt obsahuje sloučeninu zlata, alkalické sola organických a anorganických kyselín e hydrazid kyseliny oxamové, někdy také stopová nuxožatvĺ arzenu, selenu, thalia a olova.vynález se týká lázně pro galvanické zlacení elektronických součástí.Dosud známé lázně pro galvanické zlaceni elektronických součástí byly založeny na účinku arzénu, olova, nebo thalia k dosažení požadované struktury zlaceného povrchu kovu jako podkladu pro navařené polovodivé čipy. Při použití sloučenin ASIII docházelo k nežádoucím chemickým, hlavně oxidačním přeměnám arzénu a bylo nutné časté, empirické doplňování. Přebytek AsIII zlata při zahřívâní podléhají změnám. Podobný účinek má přebytek olova a thalia, které současně při větším obsahu zhoršují svačitelnost kovové zľacené podložky a polovodivého čipu.snižuje proudovou účinnost při zlacení a povlakyUvedené nedostatky odstraňuje vynález, jehož podstatou je použití hydrazidu kyseliny oxamové ve zlaticí lázni, která obsahuje kyanokomplexy zlata, organické nebo anorganické kyseliny nebo jejich sole, a ve kterých přídavek 0,01 až 5 g/1 hydrazidu kyseliny oxamové umožňuje dosažení kompaktní, lesklé nebo ssténové struktury povlaku vysoce čistého zlata, které také může obsahovat malé množství kovů ze skupiny, T 1, As,Pb nebo Se. Hydrazid kyseliny oxamové dále snižuje poréznost povlaku zlata a tím ovlivňuje zvýšení korozní stâlosti a dosažení požadované pevnosti spojů při sváření. Jeho vliv na strukturu není závislý na přídavcích kovů, ale současný přídavek 0,1 až 10 mg/l Tl, As, Pb, Se rozšiřuje oblast pracovních proudových hustot při selektivním zlacení v postřikových pokovovacích zařízeních. Při použití arzénu zvyšuje hydrazid kyseliny oxamové stabilitu sloučenin ASIII a tím zlepšuje nejen kvalitu galvanických povlaků, ale také možnosti údržby galvanické lázněvynález je objasněn na dvou příkladech, jimiž není předmět vynálezu ani omezen, ani vyčerpán.kyanozlatnan draselný 6 g/1 Fosřorečnan draselný kyselý 150 g/1 kyselina boritá 50 g/1 kyselina glukoheptonová 30 g/1 hydrazid kyseliny oxamové 0,25 g/1Při proudové hustotě 0,1 až 1 A/dmz, teplotě 70 °C, jsou dosahované povlaky saténově lesklé, vynikající svařitelnosti.kyanozlatnan draselný 16 g/1 Fosforečnan amonný střední 40 g/1 kyselina citronová 80 g/1 T 1 jako T 12304 2 mg/1 hydrazid kyseliny oxamovê 0,08 g/1Při proudové hustotě 1 až 5 A/dmz, teplotě 60 °C, jsou dosahované povlaky hladké, saténové struktury, vysoké tepelné stability, dobře svařitelné.Lázeň pro galvanické zlacení elektronických součástí,která obsahuje kyanokomplexy zlata, organické nebo anorganické kyseliny, nebo jejich alkalické sole, nebo také přídavky arzénu, thalia, olova, nebo selénu v množství 0,01 až 100,mg/1, vyznačená tím, že obsahuje hydrazid kyseliny oxamove

MPK / Značky

MPK: C25D 3/48

Značky: elektronických, galvanické, součástí, lázeň, zlacení

Odkaz

<a href="http://skpatents.com/3-263436-lazen-pro-galvanicke-zlaceni-elektronickych-soucasti.html" rel="bookmark" title="Databáza patentov Slovenska">Lázeň pro galvanické zlacení elektronických součástí</a>

Podobne patenty