Sposob výroby kyseliny sírovej kvality pre mikroelektroniku

Číslo patentu: 259353

Dátum: 17.10.1988

Autori: Gašpierik Ivan, Kotupanov Boris, Husár Štefan, Benža Jozef

Stiahnuť PDF súbor.

Text

Pozerať všetko

UMD PRO WNMW 45 Vydané 15 03 as A osssvv75 Autor vynálezu GAŠPIERIK IVAN RNDr., BENŽA JOZEF ing., KOTUPANOV BORIS ing.,HUSÄR ŠTEFAN dipl. tech., BRATISLAVA54 Spôsob výroby kyseliny sírovej kvality pre mikrnelektruniiĺuKysličník sírový získaný tepelným vytesnením z olea sa absorbuje v kyselina sírovej pre mikroelektroniku a/alebo vode čistoty pre mikroelektroniku, pričom sa zvyšuje koncentrácia absorpčnsj kyseliny sírovej. Opätovným zriedením vodou čistoty pre mikroelektroniku je upravovaná na požadovanú koncentráciu. Kysličník sírový používaný k absorpcii v kyselina sírovej a/aiebo vode čistoty pre mikroelektroniku je čistený filtračnýmí zariadeniami. Riešenie je možné použiť v elektrotechnickom priemys le.Vynález sa týka výroby kyseliny sírovej pre mikroelektroniku, ktorá je vhodná predovšetkým na využitie V planarnej technologií výroby integrovaných obvodov.Výroba kyseliny sírovej je jedna znajrozV súčasnosti je najpouživanejší spôsob prípravy kvalitnej kyseliny sírovej termickou oxidaciou síry na kysličník siričitý, ktorý sa katalyticky oxiduje na kysličník sírový, a tento je kontaktným spôsobom absorbovaný v cca 98 kyseline sírovej. Takto pripravená kyselina však ešte nespĺňa požiadavky na čistotu nutnú pre použitie v planárnej technologii pri výrobe integrovaných obvodov.V súčasnej dobe sa pripravuje kyselina sírová pre tieto účely čistením od chemických prímes rektifikáciou a následne od heteročastic mikrofiltráciou cez náročne zariadenia obsahujúce filtračné sviečky s velkostou ôk 0,2 až 0,45 jim.Nakoľko bežne pripravovaná kyselina sírová obsahuje rádové 105 až 107 heteročastíc na jeden liter väčších ako 0,5 m je ich odstraňovanie mikroiiltráciou z kyseliny sírovej veľmi nákladné.Samotná rektifikácia kyselinysírovej je velmi energeticky náročný proces.Uvedené poznatky boli čerpané z nasledovných prác a materiálov E. O. Stepun a kol. - Metódy polučenija osobo čistých neorganičeskich veščestv. Moskva - 1969 Katalóg fy Sartórius 1984 Katalóg fy Millipore 1983 Katalóg fy Merck - Selectipur MOS 1983 a Katalóg fy Carlo Erba Montedizon 1983.Súčasne boli robené pokusy o čiastočne vyčistenie koncentrovanej kyseliny sírovej vyrábanej z dymových plynov získaných z tavenia a zapekania sirnikových rúd. V týchto kyselinách sa však nachádza veľké množstvo ťažkých kovov, hlavne ortuti. Ich odstraňovanie je popísané v anglickom patente 6 215 z roku 1884 ako i v amerických patentoch 314 548 z roku 1885 1891294 z roku 1932 a 3145 080 z roku 1964, kde sú popisované spôsoby ich odstraňovanie pomocou rozpustných sírnikov reagujúcich na nerozpustné sírniky týchto kovov, ktoré sú následne odfiltrované. Podobne aj v patente USA 3 826 819 z roku 1974 od Orlandinýho a Larzona je popísaný spôsob čistenia kyseliny sírovej za pomoci sirovodíka. Vo všetkých týchto opísaných spôsoboch sú okrem prašnosti najväčšie ťažkosti s filtráciou nerozpustných zvyškov.Vo všeobecnosti pri príprave kyseliny sírovej premenou S 02 na S 05 cez lôžko V 205 je účinnost tejto katalytickej oxidácie cca 97 takže kyselina sírova obsahuje znač 4né množstvo S 02 cca 80 až 1260 ppmj,ktoré sa pracne odstraňuje prebublavaním suchého vzduchu cez jej objem.Hore uvedené nedostatky odstránené spôsobom výroby kyseliny sírovej pre mikroelektroniku, podstata ktorého je V tom, že sa do vysokočistej kyseliny sírovej pre mikroelektroniku resp. v počiatočnej fáze do vody čistoty pre mikroelektroniku s parametrami 18 MQcm a filtrovanej cezfiltračné zariadenie s pórmi 0,2 m, absorbuje filtrovaný kysličnik sírový získaný vytes nením z olea a súčasne sa takto získaná.koncentrovaná kyselina sírová riedi na požadovanú koncentráciu opäť vodov čistoty pre mikroelektroniku.vynález je možné využiť na výrobu kyseliny sírovej pre mikroelektroniku, ktora nájde Využitie hlavne pri výrobe integrovaných obvodov a iných elektrotechnických súčiastok v elektrotechnickom priemysle.Z 23 hmot. olea bol zohriatím vytesnený S 03, ktorý bol cez filtračné zariadenie privedený do absorpčnej banky, kde bola daná 98,4 hmot. kyselina sírová kvality pre mikroelektroniku. Pri cirkulácii absorpčnej kyseliny sírovej sa zvýšila jej koncentrácia na 99,5 hmot. Táto kyselina bola následne zriadená vodou čistoty pre mikroelektroniku na koncentráciu 96,2 °/J hmot., a mala .nasledovné parametre odparok 3 .. 10 hmot., sírany 4 . 10 0/0 hmot., tiažké kovy 3 . 104 hmot., chloridy 3 . 10-6 perc. hmot., lítium menej ako 16 hmot.,horčík menej ako 3 . 15 hmot.Postup bol rovnaký ako v prvom prípade, avšak počas absorpcie S 02 sa kontinuálne pridávala voda čistoty pre mikroelektroniku, a tak sa udržiavala konštantné koncentrácia absorpčnej kyseliny v rozmedzí 98,3 až 98,6 °/o hmot. Súčasne bola táto kyselina odoberaná a dorieďovaná na koncentráciu 96,3 °/o hmot. pri súčasnom chladení zariadenia vodou. Takto získaná kyselina sírová mala nasledovné parametre odparok 2 . 10 hmot., sírany 2 . 10 hmot.,ťažké kovy 3 . 105 hmot., sodík 4 . 105 perc. hmot., draslík 2 . 10 hmot., Vápnik 16 hmot., horčík menej ako 3 . 10 °/a hmot.1. Spôsob výroby kyseliny sírovej kvali- 2. Spôsob podľa bodu 1 vyznačujúcí sa ty pre mlkroelektroniku vyznačujúoi sa tým, tým, že prípadné nečistoty strhávané plynže sa oxid sírový tepelne vytesnený z oleo ným oxídom sírovým sa zachytávajú filtzavädza do vody a/alebo zriedenej kyseliny rom.sírovej kvalít pre mikroelektroniku.

MPK / Značky

MPK: C01B 17/69

Značky: kvality, kyseliny, sírovej, mikroelektroniku, spôsob, výroby

Odkaz

<a href="http://skpatents.com/3-259353-sposob-vyroby-kyseliny-sirovej-kvality-pre-mikroelektroniku.html" rel="bookmark" title="Databáza patentov Slovenska">Sposob výroby kyseliny sírovej kvality pre mikroelektroniku</a>

Podobne patenty