Zariadenie pre kontinuálne ultrazvukové čistenie

Číslo patentu: 257140

Dátum: 15.04.1988

Autor: Švehla Štefan

Stiahnuť PDF súbor.

Text

Pozerať všetko

(751 Autor 7111618211 ŠVEHLA ŠTEFAN Ing. CSC., NOVÉ MESTO nad Váhom54 Zariadenie pre knntinuálne ultrazvuková čisteniePodstata riešenia spočíva v tom, že reflexná plocha oproti ultrazvukového žiariča je situovaná na vydutom lôžku, ktoré tvorí súčasne vedenie čistených súčiastok a uzatváraciu stenu čistiaceho kanála. Čistiaci priestor je prepojený aspoň jedným vyplachovacím kanálem s priestorom čistiacej vane.Vynález sa týka riešenia zariadenia pre kontinuálne ultrazvuková čistenie, najmä drôtov a rúriek.Doteraz známe zariadenia pre kontinuálne ultrazvuková čistenie sú založené väčšinou na .využití účinkov ultrazvukovej energie v takzvanom vzdialenom ultrazvukovom poli, kde ultrazvuková žiariče vyžarujú ultrazvukovú energiu do celého veľkého priestoru čistiacej vane. Iná zariadenie pre ultrazvuková čistenie súčiastok využíva blízke ultrazvuková pole, ktorého podstata spočíva v tom, že vyžarovacia plocha ultrazvukového žiariči prichyteného na jednej zo stien malej vane, ktorá je umiestnená v tesnej blízkosti dopravníka, na ktorom sú čistené súčiastky. V priestore vymedzenom plochami čistených súčiastok a vyžarujúcou plochou ultrazvukového žiariča je stály prítok čistiacej kvapaliny Vyžarujúce plochy niekoľkých ultrazvukových žiaričov sú umiestnené za sebou jednostranne, alebo obojstranne, a to aj v dvoch rovinách. Súčasné riešenia nespĺňajú však niektoré velmi náročné požiadavky na čistenie rôznych materiálov v tvare drôtov, rúriek, pásiek a iných tenkých a dlhých predmetov v kontinuálnom režime pri vysokých rýchlostiach od pevne viazanýgh nečistôt na ich povrchu ako sú zbytkyřnazív, pilín, usadenín oxidov a podobne.Vyššie uvedené nedostatky odstraňuje a technický problém rieši zariadenie pre kontinuálne ultrazvuková čistenie podľa vynálezu, ktorého podstatou je, že reflexná plocha je situované na vydutom lôžku tvoriacom súčasne vedenie čistených súčiastok a uzatváracia stenu čistiaceho kanála, do ktorého je ultrazvukový žiarič čiastočne zapustený, a ktorý je prepojený aspoň jedným vyplachovacím kanálem s priestorom čistiacej vane.zariadením pre kontinuálne ultrazvuková čistenie podľa vynálezu sa docieli toho, že v priestore medzi ultrazvukovým žiaričom a uzatváracia stenu čistiaceho kanála, do trovaná ultrazvuková energia s vysokou intenzitou a veľmi aktívnou kavitaciou, ktoré pôsobia prostredníctvom čistiacej kvapaliny na povrch čistených predmetov.Na pripojených výkresoch sú znázornená prikladná riešenia zariadenia pre kontinuálne ultrazvuková čistenie, kde na obr. 1 je nakresieně zariadenie v reze, ktorého retlektor má tvorené lôžko jednou valcovoučastou, na obr. 2 je nakreslený žiarič a reflektor s lôžkom v tvare dvoch valcových častí v reze, na obr. 3 je nakreslený žiarič a reflektor s prizmatickým lôžkom v reze,a na obr. 4 je nakreslený žiarič a reflektor v tvare hranola v reze.Zariadenie pre kontinuálne ultrazvuková čistenie pozostáva z ultrazvukovej kmitavej sústavy 1 tvorenej ultrazvukovou hlavicou 2 a ultrazvukovým žiaričom 4. Činná plocha 5 ultrazvukováho žiariča 4 je tvorená valcovou plochou. Oproti činnej ploche 5 ultrazvukového žiariče 4 je umiestnený reflektor B, v ktorom je vytvorené vyduté lôžko 7 tvorené reflexnou plochou 3. Ultrazvukový žiarič 4 je s reilektorom B uložený v čistiacej vani 9, ktorá je naplnená čistiacou kvapalinou 10. V reflektore 6 je vytvorený vyplachovací kanál 11 spájajúci lôžko 7 s čistiacou kvapalinou lll v čistiacej vani B. Reflektor (i je uchytený na ultrazvukovej hlavici 2 prostredníctvom držiaka 12. Ultrazvuková hlavica 2 je pripojená na ultrazvukový generátor 13.U ďalšieho riešenia je činna plocha 5 ultrazvukového žiariča 4 tvorená dvoma časťami valcových plôch. Lôžko 7 reflektora 6 je tvorené dvoma reflexnými plochami 3 v tvare valcových plôch a, ktoré sú pripojené s priestorom čistiacej vane H vyplachovacími kanálmi 11.Iné riešenie zariadenia má tvorenú činnú plochu 5 ultrazvukového žiariča 4 a reflexná plocha 3 lôžka 7 prizmatickou plochou 14. Lôžko 7 je s priestorom čistiacej vane 9 spojene prostrednictvom vyplachovacieho kanála 11.Ďalšie riešenie zariadenia má rovnú činnú plochu 5. Retlexná plocha 3 lôžka 7 je tvorená hranolovou plochou 15. Lôžko 7 je s priestorom čistiacej vane 9 spojené prosvtrednictvom vyplachovacích kanálov 11. Cistiaca vaňa 9 sa pred čistenim naplní čistiacou kvapalinou 10. Po zapnutí ultrazvukového generatora 13 ultrazvukový žiarič začne vyžarovat ultrazvuková energiu smerom do lôžka 7, v ktorom sa v pozdlžnom smere posúva čistenä süčiastka 16, ktorá môže byt v tvare drôtu, rúrky, prípadne pásu. Vplyvom vyžarovanej ultrazvukovej energie, ktorá sa odráža od retlexných plôch 3 lôžka 7 a vplyvom čistiacej kvapaliny sa súčiastka 16 kontinuálne čistí od pevne viazaných nečistôt.Zariadenie pre kontinuálne ultrazvuková čistenie, pozostávajúca z ultrazvukovej kmitavej sústavy, tvorenej ultrazvukovou hlavicou a žiaričom, uložených v čistiacej vani,kde oproti ultrazvukovému žiariču je reflexná plocha, vyznačujúce sa tým, že reflexná plocha 3 je situované na vydutomlôžku 7, tvoriacom súčasne vedenie čistených súčiastok 16 a uzatváracia stenu čistiaceho kanála, do ktorého je ultrazvukový žiarič (4) čiastočne zapustený a ktorý je prepojený aspoň jedným vyplachovacim kanálem 11 s priestorom čistiacej vane 9.

MPK / Značky

MPK: B08B 3/12

Značky: kontinuálně, ultrazvukové, zariadenie, čistenie

Odkaz

<a href="http://skpatents.com/3-257140-zariadenie-pre-kontinualne-ultrazvukove-cistenie.html" rel="bookmark" title="Databáza patentov Slovenska">Zariadenie pre kontinuálne ultrazvukové čistenie</a>

Podobne patenty