Vákuová komora pre zariadenie na iónové plátovanie a iónovú implantáciu

Stiahnuť PDF súbor.

Text

Pozerať všetko

okno mo vvmuszv ,A 0 mm 45 vydane 15 10 38Autor vynaxezu LISKA DUŠAN ing., KOŠICE. PECÁR IVAN prom. fyz., LUČENEC,SEMSEY LADISLAV ing., KOŠICE, GAIDOŠ ANDRE ing., PREŠOV,FERDINANDY MILAN RNDr., KRÁĽ JOZEF ing., KOŠICE54 Vákuová komora pre zariadenie na iúnové plátovanie a iónovü implaniáciuRiešenie sa týka vâkuovej komory pre zariadenie na iónové plátovanie a iônovú implantäciu dlhých hriadeľových súčiastok a nástrojov s dĺžkou presahujúcou rozmer komory, ktorá je opatrená prírubami na ktoré sú pripojené vymeniteľné príruby s dĺžkou v závislostí na dĺžke upravovaných súčias tok, ktoré sú uchytené o veká V ktorých je prípravok umožňujúci rotáciu, vratný a po~ suvný pohyb súčiastok počas vytvárania vrstiev v priestore vákuovej komory, oproti zdroju deponovaných častíc.Vynalez sa týka vákuovej komory pre zariadenie na iónové plátovanie a iónovú implantáciu dlhých hriadelových súčiastok a nástrojov s dĺžkou presahujúcou rozmer komory.Doteraz známe zariadenia na vytváranie funkčných tvrdých oteruvzdorných vrstiev metódami iónového plátovania alebo iónovej implantácle neumožňujú s ohľadom na rozmery pracovnej komory, ktorá je mimo iného primárne závislá na velkosti a čerpacej schopnosti vákuových vývev upravovať povrch súčiastok hriadeľového tvaru s velkým pomerom dĺžky ku prierezu súčiastok. Vákuové komory takýchto zariadení sú bud horizontálne, alebo vertikáĺne orientované a sú v tvare valca alebo hranola, ktoré sú osovo sümerné. Ak by sme použili vákuové komory, ktorých by dĺžka bola dostatočná pre umiestnenie súčiastok hriadeľového tvaru, potom by to bolí jednoúčelovo konštruované zariadenia, čím by bola obmedzená po 4žadovaná univerzálnost uvedených typov vákuových zariadení. Uvedené nevýhody odstraňuje zariadeniepodľa vynálezu, ktorého podstata spočíva Vtom, že pozostáva z vákuovej komory 1 pre zariadenie na iónové plätovanie alebo iónovú implantaciu na vytváranie funkčných tvrdých oteruvzdorných vrstiev na dlhých hriadelových súčiastkach 3 tak, že o príruby 2 vákuovej komory 1 sa uchytia vymeniteľné príruby 4, ktorých dĺžka je volená V zavislosti na dĺžke upravovaných súčiastok 3. Príruby 4 sú uzavreté vekami 5 o ktoré je upnutý prípravok 6 pre rotáciu, vratný a posuvný pohyb súčiastok 3 ktorých dĺžka presahuje rozmer vákuovej komory 1 V priestore oproti zdroju deponovaných častíc 7.Navrhované riešenie podľa vynälezu predstavuje vyššiu univerzálnosť zariadeni pre iónové pľätovanie a iónovú implantäciu aúpravu povrchu súčiastok a nástrojovhriamVákuová komora pre zariadenie na iónové plátovanie a iónovú implantáciu vyznačená tým, že vákuovä komora 1 je opatrena prírubaml 2 do ktorých sú uložené dlhé hriadeľové súčiastky alebo nástroje 3 s dĺžkoutpresahujúcou rozmer komory 1, pričom rozmer vymenítelných prí rub 4 je prispôsobený dĺžke súčiastok 3,ktoré sú uchytené o veka 5 v ktorých je prípravok 6 pre rotáciu, vratný aposuvný pohyb súčiastok 3 počas vytvárania vrstiev v priestore vákuovej komory 1 oproti zdroju deponovaných častíc 7.

MPK / Značky

MPK: C23C 14/56

Značky: komora, vakuová, iónové, implantáciu, plátovanie, iónovú, zariadenie

Odkaz

<a href="http://skpatents.com/3-252966-vakuova-komora-pre-zariadenie-na-ionove-platovanie-a-ionovu-implantaciu.html" rel="bookmark" title="Databáza patentov Slovenska">Vákuová komora pre zariadenie na iónové plátovanie a iónovú implantáciu</a>

Podobne patenty