Spôsob, zariadenie a systém na čistenie presných komponentov, na báze dvoch rozpúšťadiel

Číslo patentu: E 17884

Dátum: 28.10.2005

Autori: Barrett William, Mouser Wayne, Bergman Frederick, Manchester Russell

Je ešte 21 strana.

Pozerať všetko strany alebo stiahnuť PDF súbor.

Text

Pozerať všetko

0001 Predložený vynález sa všeobecne týka systému čistenia presných komponentov na báze rozpúšťadla. Obzvlášť sa vynález týka čistiaceho systému na báze dvoch rozpúštadieI pre presné komponenty, za použitia procesu kultivácie rozpúšťadla na zníženie celkového vypúšťania rozpúšťadla. 0002 Takéto systémy sú známe napríklad z dokumentov JP 10 290963 A,US 6 355113 B 1 a JP 2000 008095 A.0003 Systémy precízneho čistenia a sušenia typicky využívajú veľkú rozmanitosť riešenia na čistenie, vrátane rôznych rozpúštadiel, detergentov alebo iných vodných zmesí. Tieto systémy pracujú na čistení a sušení rôznych zariadení alebo komponentov, ako napríklad lekárskych zariadení, optických nástrojov, doštičiek (angl. wafers), PC dosiek, hybridných obvodov,komponentov diskových jednotiek, presných mechanických alebo elektromechanických komponentov alebo pod.0004 Mnoho systémov zo stavu techniky využíva rozpúšťadlá klasiñkované ako VOC alebo Volatile Organic Compounds (prchavé organické látky). VOC sú organické chemikálie, ktoré majú veľké tlaky výparov, takže VOC môžu ľahko vytvárať výpary pri okolitých teplotách a tlaku. Zatial čo môžu byt VOC úspešné v systéme precízneho čistenia, použitie a likvidácia VOC je ťažko reguIovateIná v dôsledku skutočností týkajúcich sa škodlivých účinkov čo sa týka životného prostredia a zdravia, čo vyplýva z expozície a/alebo vypúšťania VOC.0005 Cieľom predloženého vynálezu je vytvorit vhodný čistiaci systém a vhodné čistiace spôsoby na čistenie presných komponentov pri využívaní procesu kultivácie rozpúšťadla na zníženie vypúšťania rozpúšťadla tým, že sa rozpúšťadlá rekuperujú na opätovné využitie a/alebo likvidáciu. Predložený vynález obsahuje konštrukciu na báze dvoch rozpúšťadiel na čistenie presných komponentov za použitia dvoch rozpúšťadiel na odstránenie zeminy a iných nečistôt. V jednom reprezentatívnom uskutočnení môžu dve rozpúšťadlá obsahovať prve rozpúšťadlo bez VOC (angl. VOC-exempt) a druhé rozpúšťadlo bez VOC, kde rozpúšťadlá bez VOC sú všeobecne účinné ako VOC rozpúšťadlá. V prevádzkovom režime obsahuje čistenie presné komponenty v prvom rozpúšťadle bez VOC na odstránenie zeminy , pevných častíc, mazadla alebo iných nečistôt z presného komponentu, nasledované zmáčaním presného komponentu vo vnútri druhej nádrže obsahujúcej druhé rozpúšťadlo bez VOC na odstránenie akéhokoľvek filmu ponechaného na presnom komponente prvým rozpúšťadlom bez VOC. V priebehu prevádzkového režimu čistiaci a zmáčací krok môže každý obsahovať vystavenie presného komponentu oscilácii a ultrazvukovo zavedenej kavitácii v zodpovedajúcom rozpúšťadle pre ďalšie podporenie čistenia a zmáčania. Režim rekuperácie rozpúšťadla obsahuje separáciu prvého rozpúšťadla bez VOC, odstráneného ako časť zmáčacieho kroku, z druhého rozpúšťadla bez VOC. V jednom reprezentatívnom uskutočnení môže byť druhé rozpúšťadlo bez VOC drahšie než prvé rozpúšťadlo bez VOC, takže druhé rozpúšťadlo bez VOC je rekuperované a znovu získavané na použitie, zatial čo prvé rozpúšťadlo bez VOC, ako aj akékoľvek nečistoty v prvom rozpúšťadle bez VOC môžu byt riadne Iikvidované.0006 V niektorých reprezentatívnych uskutočneniach zverejnenie opisuje spôsob na čistenie presných komponentov s čistiacim systémom na báze dvoch rozpúštadieI, ktorý má systém rekultivácie rozpúšťadla.0007 V niektorých reprezentatívnych uskutočneniach zverejnenie opisuje čistiaci systém na báze dvoch rozpúšťadiel na čistenie presných komponentov, zatial čo zaisťuje rekuperáciu a/alebo likvidáciu oboch rozpúšťadiel.0008 V niektorých reprezentatívnych uskutočneniach zverejnenie opisuje zariadenie na čistenie obsahujúce nádrže a priradené inštalácie na uľahčenie čistenia presných komponentov čistiacim systémom na báze dvoch rozpúšťadiel, ktorý má systém rekultivácie rozpúšťadla.0009 V niektorých reprezentativnych uskutočneniach zverejnenie opisuje spôsob likvidácie prvého rozpúšťadla bez VOC a rekuperáciu druhého rozpúšťadla bez VOC s čistiacim systémom na báze dvoch rozpúšťadiel.0010 Ako sa tu v predloženom opise používa, je termin rozpúšťadlo bez VOC deñnovaný, aby zahŕňal organické zložky určené prostredníctvom the United States Environmental Protection Agency, aby mali nepatrnú fotochemickú reaktivitu, a ktoré sú špecifikované v the United States Code of Federal Regulations v 40 C.F.R. 51.100(s).0011 Vyššie uvedené zhrnutie rôznych uskutočnení vynálezu nie je zamýšľané, aby opisovalo každé znázornené uskutočnenie alebo každú implementáciu vynálezu. Obrázky v podrobnom opise. ktoré nasledujú, podrobnejšie vysvetľujú tieto uskutočnenia.0012 Vynálezu je možné komplexnejšie porozumieť pri zohľadnenl nasledujúceho podrobného opisu rôznych uskutočnení vynálezu v spojení s pripojenými výkresmi, na ktorých Obrázok 1 je schematický pohľad na čistiaci systém podľa predloženého opisu, predstavujúci čistiaci a zmáčací režim. Obrázok 2 je schematický pohľad na čistiaci systém podľa obrázku 1,predstavujúci režim rekuperácie rozpúšťadla a likvidácie odpadu. Obrázok 3 je schematický pohľad na zmáčaciu nádrž a rekuperačnú nádrž čistiaceho systému z obrázku 1 v režime spúšťania. Obrázok 4 je schematický pohľad na zmáčaciu nádrž a rekuperačnú nádrž čistiaceho systému z obrázku 1 v nepretržitom čistiacom režime. Obrázok 5 je schematický pohľad na zmáčaciu nádrž a rekuperačnú nádrž čistiaceho systému z obrázku 1 v prvom kroku režimu rekuperácieObrázok 6 je schematický pohľad na zmáčaciu nádrž a rekuperačnúnádrž čistiaceho systému z obrázku 1 v druhom kroku režimuObrázok 7 je schematický pohľad na zmáčaciu nádrž a rekuperačnúnádrž čistiaceho systému z obrázku 1 v treťom kroku režimu rekuperácieObrázok 8 je schematický pohľad na zmáčaciu nádrž a rekuperačnúnádrž čistiaceho systému z obrázku 1 v štvrtom kroku režimuObrázok 9 je schematický pohľad na zmáčaciu nádrž a rekuperačnúnádrž čistiaceho systému z obrázku 1 v piatom kroku režimu rekuperácieObrázok 10 je schematický pohľad na zmáčaciu nádrž a rekuperačnúnádrž čistiaceho systému z obrázku 1 v režime vracania sa do procesu. 0013 Zatiaľ čo je vynález prístupný pre rôzne modifikácie a alternatívne formy, boli jeho špecifiká ukázané prostredníctvom príkladu na výkresoch a budú opísané podrobne. Malo by sa však chápať, že zámerom je neobmedzovať vynález na určité opísané uskutočnenia. Naopak je zámerom,pokryť všetky uskutočnenia v rámci rozsahu pripojených patentových nárokov.0014 Čistiaci systém 100 na báze dvoch rozpúštadieI podľa opisu je znázornený na obrázkoch 1 a 2. Čistiaci systém 100 na báze dvoch rozpúšťadiel je navrhnutý a prispôsobený na čistenie presných komponentov,ako napríklad lekárskych zariadení, optických nástrojov, doštičiek, PC dosiek,hybridných obvodov, komponentov diskových jednotiek, presných mechanických alebo elektromechanických komponentov a pod. U niektorých súčasne uprednostňovaných uskutočnení obsahuje čistiaci systém 100 na báze dvoch rozpúšťadiel jediný integrovaný systém, ktorý je samostatný, takže nie jepotrebné žiadne podstatné prepojenie medzi súčasťami čistiaceho systému na

MPK / Značky

MPK: B08B 9/00

Značky: báze, dvoch, čistenie, zariadenie, přesných, spôsob, rozpúšťadiel, systém, komponentov

Odkaz

<a href="http://skpatents.com/29-e17884-sposob-zariadenie-a-system-na-cistenie-presnych-komponentov-na-baze-dvoch-rozpustadiel.html" rel="bookmark" title="Databáza patentov Slovenska">Spôsob, zariadenie a systém na čistenie presných komponentov, na báze dvoch rozpúšťadiel</a>

Podobne patenty