Sposob ochrany vnútorných stien fotoreaktora pred vytváraním tenkých polymerných filmov z reakčných produktov na nich

Číslo patentu: 254021

Dátum: 17.12.1987

Autori: Toma Štefan, Hrnčiar Pavol, Gáplovský Anton, Donovalová Jana

Stiahnuť PDF súbor.

Text

Pozerať všetko

.Autor vynálezu GÁPLOVSKÝ ANTON RNDr. CSO., BRATISLAVA, §r.°rr.t 2 POPIS VYNÁLEZU 254021ÚŘAD rno VYNÁLEZY 45 Vydané 15 11 B 8(54) Spôsob ochrany vnútorných stien fotoreaktora pred vytváraním tenkých polymérnych filmov z reakčných produktov na nichRiešenie sa týka odboru organickej a anorganickej fotochémle, pri ktorom sa dosahuje ochrany vnútorných stien ľotoreaktorov s externým a interným zdrojom svetla pred vytváraním filmov tvorených produktammi fotoreakcie, resp. vznikajücimi polymêrnymi látkami tým, že sa fotochemické reakcie robia v reaktore, ktorý je ponorený do vody V ultrazvukovej vani pri jej definovanej teplote pomocou ktorej je zabezpe čený prenos ultrazvukovej energie do reakčnej zmesi cez steny fotoreaktora pri zapnutom svetelnom zdroji fotoreaktora.ná sa~týka spôsobu-ochrany vnútorstien lfotoreaktorov pred vytváranímtenkých polymerných filmov z reakčnýchU fotoreaktorov s interným a externým svetelným zdrojom satfotochemicky aktívne svetlo absorbuje reakčnou zmesou V hrúbke niekoľkých mm. V tejto vrstve je vysoká koncentráciareaktivnych častíc, ktoré medzi sebou reagujú a vytvárajú tenký polymérny film na stenách fotoreaktorov, ktorý pod vplyvom absorbcie alebo rozptylu fotochemicky aktívneho svetla znižujú V podstatnej miere konverziu reakcie a zvyšujú jej energetickú náročnosť.je známe, že v niektorých prípadoch možno vnútorné steny fotoreaktorov chránit tak, že sa na ne nanesie tenká vrstva halogensilanu. Širšie použitie tohto spôsobu jeobmedzené hydrofóbnosťou použitého halo gensilánu.Uvedené nedostatky možno odstrániť spôsobom ochrany vnútorných stien fotoreaktorov podľa vynalezu, ktorý je založený na využití ultrazvukovej energie na miešanie reakčnej zmesi vo fotoreaktoroch, tak že fotoreaktor sa pohorí do vody v ultrazvukovej vani pomocou ktorej je zabezpečenýprenosrrultrazvukovej energie do reakčnejzmesi cez steny fotoreaktora a súčasne so zapnutím svetelného zdroja fotochemické ho reaktora zapne aj ultrazvuková vaňa.Prednostou spôsobu ochrany vnútorných stien fotoreaktorov podľa vynálezu je jej univerzálnost použitia pre všetky typy reaktorov a reakcií, potlačenie vzniku vedlajšlch produktov a zvýšenie reprodukovatelnosti syntéz.250 ml 1 D molárny roztok benzofenonu v lzopropanole p. a. bolo ožarované poly 4chromatickým svetlom ortutovej výbojky v reaktore s kremenným ponorným prstom. Reaktor bol ponorený do vody v ultrazvukovej vani a súčasne s zapnutím svetelného zdroja »bola zapnutú aj ultrazvuková vaňa. Úbytok benzofenonu bol sledovaný UV spektroskopiou. Reakčný čas bol 10 hodín. Za rovnakých podmienok a reakčného času bola tá ista reakcia prevedená bez aplikácie ultrazvuku. Porovnaním absorbcie svetla emitovaného výbojkou kremenným ponorným prstom fotoreaktora pred a po reakcii pri aplikácii ultrazvuku a bez jeho aplikácie sme vyhodnotili tvorbu polymérnych filmov na ponornom prste. V pripade ked bol aplikovaný ultrazvuk počas reakcie transmisie fotochemického prstu sa nezmenila. Naopak pri reakcii bez ultrazvuku sa na fotochemickom prste vytvoril film,ktorý bolo možne identifikovať aj vizuálne a ktorý znižuje transmisiu ponorného prstu o 12 pri vlnovej dĺžke 254 nm.0,40 g fenylesteru kyseliny benzoovej rozpustenej v 50 ml etanolu bolo ožarované v kremennej kyvete vysokofrekvenčne budenou ortuťovou výbojkou počas 12 hodin. Výbojka v tomto experimente je externým svetelným zdrojom. Reakčná kyveta bola čiastočne ponorená do vody v ultrazvukovej vani a súčasne so zapnutím svetelného zdroja bola zapnuté aj ultrazvuková vaňa. Rovnaký pokus bol urobený kvôli porovnaniu s tým rozdielom, že ultrazvuková vaňa bola vypnuté. Pri pokuse bez aplikácie ultrazvuku sa transmisla kyvety pri vlnovej dĺžke 254 nm znížila o 18 v porovnaní s pokusom, ked bol aplikovaný ultrazvuk. Zmena transmisie kyvety bola zapričinená filmom polymérnych látok na stenách kyvety vznikajúcich pri reakcii.Spôsob ochrany vnútorných stien fotoreaktorov s interným a externým svetelným zdrojom pred vytvorením tenkých filmov z reakčných produktov a polymerov vznikajúcich pri fotoreakcii, vyznačujúci sa tým,že totoreaktor sa ponorI do vody v ultrazvu kovej vani, pomocou ktorej je zabezpečený prenos ultrazvukovej energie do reakčnej zmesi cez steny fotoreaktora, a súčasne sa so zapnutím svetelného zdroja fotochemického reaktora zapne aj ultrazvuková vaňa.

MPK / Značky

MPK: B01J 19/08

Značky: polymérnych, fotoreaktora, vnútorných, produktov, vytváraním, ochrany, stien, tenkých, reakčných, filmov, spôsob

Odkaz

<a href="http://skpatents.com/2-254021-sposob-ochrany-vnutornych-stien-fotoreaktora-pred-vytvaranim-tenkych-polymernych-filmov-z-reakcnych-produktov-na-nich.html" rel="bookmark" title="Databáza patentov Slovenska">Sposob ochrany vnútorných stien fotoreaktora pred vytváraním tenkých polymerných filmov z reakčných produktov na nich</a>

Podobne patenty